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1. (WO2018063382) NANOPARTICULES DE GROUPE PRINCIPAL COIFFÉES D'UN LIGAND ET FAISANT OFFICE DE RÉSERVES POUR LITHOGRAPHIE PAR ULTRAVIOLETS EXTRÊMES À ABSORPTION ÉLEVÉE
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N° de publication : WO/2018/063382 N° de la demande internationale : PCT/US2016/054953
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 30.09.2016
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,B82Y 30/00 (2011.01) ,B82Y 40/00 (2011.01)
[IPC code unknown for G03F 7/04][IPC code unknown for B82Y 30][IPC code unknown for B82Y 40]
Déposants :
INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, CA 95054, US
Inventeurs :
KRYSAK, Marie; US
BLACKWELL, James, M.; US
BRISTOL, Robert, L.; US
GSTREIN, Florian; US
Mandataire :
BRASK, Justin, K.; US
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LIGAND-CAPPED MAIN GROUP NANOPARTICLES AS HIGH ABSORPTION EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY RESISTS
(FR) NANOPARTICULES DE GROUPE PRINCIPAL COIFFÉES D'UN LIGAND ET FAISANT OFFICE DE RÉSERVES POUR LITHOGRAPHIE PAR ULTRAVIOLETS EXTRÊMES À ABSORPTION ÉLEVÉE
Abrégé :
(EN) A photosensitive composition including metal nanoparticles capped with an organic ligand, wherein the metal particles includes a metal that absorbs light in the extreme ultraviolet spectrum. A method including synthesizing metal particles including a diameter of 5 nanometers or less, wherein the metal particles includes a metal that absorbs light in the extreme ultraviolet spectrum; and capping the metal particles with an organic ligand. A method including depositing a photosensitive composition on a semiconductor substrate, wherein the photosensitive composition includes metal nanoparticles capped with an organic ligand and the nanoparticles include a metal that absorbs light in the extreme ultraviolet spectrum; exposing the photosensitive composition to light in an ultraviolet spectrum through a mask including a pattern; and transferring the mask pattern to the photosensitive composition.
(FR) L'invention concerne une composition photosensible qui comprend des nanoparticules métalliques coiffées d'un ligand organique, les particules métalliques incluant un métal qui absorbe la lumière dans le spectre ultraviolet extrême. L'invention se rapporte également à un procédé qui consiste à synthétiser des particules métalliques présentant un diamètre de 5 nanomètres ou moins, les particules métalliques incluant un métal qui absorbe la lumière dans le spectre ultraviolet extrême, et à coiffer ces particules métalliques d'un ligand organique. L'invention a trait en outre à un procédé qui consiste à déposer une composition photosensible sur un substrat semi-conducteur, la composition photosensible incluant des nanoparticules métalliques coiffées d'un ligand organique et les nanoparticules comprenant un métal qui absorbe la lumière dans le spectre ultraviolet extrême, à exposer ladite composition photosensible à de la lumière dans le spectre ultraviolet à travers un masque comportant un motif, et à transférer le motif de masque sur cette composition photosensible.
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Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)