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1. (WO2018062590) COMPOSÉ PRÉCURSEUR ORGANOMÉTALLIQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR POUR FORMER UN FILM MINCE D'OXYDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Pub. No.:    WO/2018/062590    International Application No.:    PCT/KR2016/010941
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Oct 01 01:59:59 CEST 2016
IPC: C07F 15/06
C07F 15/02
C23C 16/18
C23C 16/455
C23C 16/40
Applicants: HANSOL CHEMICAL CO.,LTD
주식회사 한솔케미칼
Inventors: PARK, Jung Woo
박정우
JANG, Donghak
장동학
KIM, Yeong Eun
김영은
Title: COMPOSÉ PRÉCURSEUR ORGANOMÉTALLIQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR POUR FORMER UN FILM MINCE D'OXYDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract:
La présente invention concerne un composé organométallique disponible pour le dépôt de film mince par dépôt en phase vapeur et, plus précisément, un précurseur Co ou Fe applicable à un dépôt de couches atomiques (ALD) ou un dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et son procédé de fabrication.