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1. (WO2018062557) PARTICULES DE LATEX POUR RÉACTIF DE MESURE, PARTICULES DE LATEX SENSIBILISÉES, ET RÉACTIF DE MESURE POUR IMMUNONÉPHÉLOMÉTRIE
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N° de publication : WO/2018/062557 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035744
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
C08L 25/02 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 212/06 (2006.01) ,C08F 220/38 (2006.01) ,C08F 228/06 (2006.01) ,C08K 5/45 (2006.01) ,C08L 25/06 (2006.01) ,G01N 33/543 (2006.01) ,G01N 33/545 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
25
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un cycle carbocyclique aromatique; Compositions des dérivés de tels polymères
02
Homopolymères ou copolymères d'hydrocarbures
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
44
Polymérisation en présence d'additifs, p.ex. plastifiants, matières colorantes, charges
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
212
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un noyau carbocyclique aromatique
02
Monomères contenant un seul radical aliphatique non saturé
04
contenant un cycle
06
Hydrocarbures
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
220
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
38
Esters contenant du soufre
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
228
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison au soufre ou par un hétérocycle contenant du soufre
06
par un hétérocycle contenant du soufre
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
5
Emploi d'ingrédients organiques
36
Composés contenant du soufre, du sélénium ou du tellure
45
Composés hétérocycliques comportant du soufre dans le cycle
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
25
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un cycle carbocyclique aromatique; Compositions des dérivés de tels polymères
02
Homopolymères ou copolymères d'hydrocarbures
04
Homopolymères ou copolymères du styrène
06
Polystyrène
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
33
Recherche ou analyse des matériaux par des méthodes spécifiques non couvertes par les groupes G01N1/-G01N31/146
48
Matériau biologique, p.ex. sang, urine; Hémocytomètres
50
Analyse chimique de matériau biologique, p.ex. de sang, d'urine; Recherche ou analyse par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligands; Recherche ou analyse immunologique
53
Essais immunologiques; Essais faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet
543
avec un support insoluble pour l'immobilisation de composés immunochimiques
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
33
Recherche ou analyse des matériaux par des méthodes spécifiques non couvertes par les groupes G01N1/-G01N31/146
48
Matériau biologique, p.ex. sang, urine; Hémocytomètres
50
Analyse chimique de matériau biologique, p.ex. de sang, d'urine; Recherche ou analyse par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligands; Recherche ou analyse immunologique
53
Essais immunologiques; Essais faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet
543
avec un support insoluble pour l'immobilisation de composés immunochimiques
544
Support organique
545
Résine synthétique
Déposants :
積水化学工業株式会社 SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 4-4, Nishitemma 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308565, JP
積水メディカル株式会社 SEKISUI MEDICAL CO., LTD. [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目1番3号 1-3, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030027, JP
Inventeurs :
杉本 理 SUGIMOTO, Satoru; JP
脇屋 武司 WAKIYA, Takeshi; JP
岩本 匡志 IWAMOTO Tadashi; JP
北原 慎一郎 KITAHARA, Shinichiro; JP
池上 真亜紗 IKEGAMI, Maasa; JP
Mandataire :
特許業務法人 もえぎ特許事務所 MOEGI PATENT OFFICE; 東京都新宿区荒木町20番地21インテック88ビル4階 4F, Intec 88 Bldg. 20-21 Araki-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1600007, JP
Données relatives à la priorité :
2016-19243730.09.2016JP
Titre (EN) LATEX PARTICLES FOR MEASUREMENT REAGENT, SENSITIZED LATEX PARTICLES, AND MEASUREMENT REAGENT FOR IMMUNONEPHELOMETRY
(FR) PARTICULES DE LATEX POUR RÉACTIF DE MESURE, PARTICULES DE LATEX SENSIBILISÉES, ET RÉACTIF DE MESURE POUR IMMUNONÉPHÉLOMÉTRIE
(JA) 測定試薬用ラテックス粒子、感作ラテックス粒子及び免疫比濁法用測定試薬
Abrégé :
(EN) Provided are latex particles for a measurement reagent, the particles comprising: a component (A) formed from at least either dinaphthothiopene or derivatives thereof; and a substrate component (B) encapsulating component (A). By means of the latex particles for a measurement reagent, high-sensitivity measurement is possible, even if measuring a measurement sample having a dilute concentration of the substance to be measured.
(FR) L'invention concerne des particules de latex pour réactif de mesure qui comportent : un composant (A) constitué d'un dinaphthothiophène et/ou d'un dérivé de celui-ci; et un composant matériau de base (B) enveloppant le composant (A). Ces particules de latex pour réactif de mesure permettent une mesure très précise y compris dans le cas où la mesure porte sur un échantillon de mesure présentant une concentration mince de la substance examinée.
(JA) ジナフトチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれか一方からなる成分(A)と、成分(A)を内包する基材成分(B)と、を備える測定試薬用ラテックス粒子。測定試薬用ラテックス粒子によれば、被検物質の濃度が希薄な測定試料を測定する場合であっても高感度な測定が可能である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)