WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018062497) DISPOSITIF DE CORPS MOBILE, PROCÉDÉ DE DÉPLACEMENT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’AFFICHEUR À ÉCRAN PLAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/062497    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/035507
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290 (JP)
Inventeurs : AOKI, Yasuo; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-195222 30.09.2016 JP
Titre (EN) MOVABLE BODY DEVICE, DISPLACEMENT METHOD, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, FLAT-PANEL DISPLAY MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE CORPS MOBILE, PROCÉDÉ DE DÉPLACEMENT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’AFFICHEUR À ÉCRAN PLAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 移動体装置、移動方法、露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This movable body device is provided with: a substrate holder (32) which holds a substrate (P) and which can move in the X axis and the Y axis directions; a Y coarse movement stage (24) which can move in the Y axis direction; a first measurement system which acquires position information of the substrate holder (32) by means of heads (74x, 74y) provided on the substrate holder (32) and a scale (72) provided on the Y coarse movement stage (24); a second measurement system which acquires position information of the Y coarse movement stage (24) by means of heads (80x, 80y) provided on the Y coarse movement stage (24) and a scale (78); and a control system which controls the position of the substrate holder (32) on the basis of position information acquired by the first and second measurement systems. The first measurement system irradiates a measurement beam while moving the heads (74x, 74y) in the X axis direction with respect to the scale (72), and the second measurement system irradiates a measurement beam while moving the heads (80x, 80y) in the Y axis direction with respect to the scale (78).
(FR)L'invention concerne un dispositif de corps mobile pourvu : d'un support (32) de substrat qui maintient un substrat (P) et qui peut se déplacer dans les directions d'axe X et d'axe Y ; d'une platine de déplacement grossier Y (24) qui peut se déplacer dans la direction d'axe Y ; d'un premier système de mesure qui acquiert des informations de position du support (32) de substrat au moyen de têtes (74x, 74y) disposées sur le support (32) de substrat et d'une échelle (72) prévue sur la platine de déplacement grossier Y (24) ; d'un second système de mesure qui acquiert des informations de position de la platine de déplacement grossier Y (24) au moyen de têtes (80x, 80y) disposées sur la platine de déplacement grossier Y (24) et d'une échelle (78) ; et d'un système de commande qui commande la position du support (32) de substrat sur la base d'informations de position acquises par les premier et second systèmes de mesure. Le premier système de mesure projette un faisceau de mesure tout en déplaçant les têtes (74x, 74y) dans la direction d'axe X par rapport à l'échelle (72), et le second système de mesure projette un faisceau de mesure tout en déplaçant les têtes (80x, 80y) dans la direction d'axe Y par rapport à l'échelle (78).
(JA)移動体装置は、基板(P)を保持し、X軸及びY軸方向へ移動可能な基板ホルダ(32)と、Y軸方向へ移動可能なY粗動ステージ(24)と、基板ホルダ(32)の位置情報を、基板ホルダ(32)に設けられたヘッド(74x、74y)と、Y粗動ステージ(24)に設けられたスケール(72)とによって取得する第1計測系と、Y粗動ステージ(24)の位置情報を、Y粗動ステージ(24)に設けられたヘッド(80x、80y)と、スケール(78)とによって取得する第2計測系と、第1及び第2計測系により取得された位置情報に基づいて、基板ホルダ(32)の位置を制御する制御系と、を備え、第1計測系はヘッド(74x、74y)をスケール(72)に対してX軸方向へ移動させながら計測ビームを照射し、第2計測系はヘッド(80x、80y)をスケール(78)に対してY軸方向へ移動させながら計測ビームを照射する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)