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1. (WO2018062487) DISPOSITIF CORPS MOBILE, PROCÉDÉ DE DÉPLACEMENT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉCRAN PLAT, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
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N° de publication : WO/2018/062487 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035486
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G01B 11/00 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01) ,H01L 21/68 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
11
Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de moyens optiques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9
Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
68
pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
青木 保夫 AOKI, Yasuo; JP
Mandataire :
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Données relatives à la priorité :
2016-19524730.09.2016JP
Titre (EN) MOVABLE BODY DEVICE, DISPLACEMENT METHOD, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, FLAT-PANEL DISPLAY MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF CORPS MOBILE, PROCÉDÉ DE DÉPLACEMENT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉCRAN PLAT, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 移動体装置、移動方法、露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、並びにデバイス製造方法
Abrégé :
(EN) This movable body device is provided with: a substrate holder (32) which holds a substrate (P) and which can move in the X axis and the Y axis directions; a Y coarse movement stage (24) which can move in the Y axis direction; a first measurement system which acquires position information of the substrate holder (32) by means of heads (74x, 74y) provided on the substrate holder (32) and a scale (72) provided on the Y coarse movement stage (24); a second measurement system which acquires position information of the Y coarse movement stage (24) by means of heads (80x, 80y) provided on the Y coarse movement stage (24) and a scale (78); and a control system which controls the position of the substrate holder (32) on the basis of position information acquired by the first and second measurement systems. The first measurement system irradiates a measurement beam while moving the heads (74x, 74y) in the X axis direction with respect to the scale (72), and the second measurement system irradiates a measurement beam while moving the heads (80x, 80y) in the Y axis direction with respect to the scale (78).
(FR) La présente invention concerne un dispositif corps mobile qui est pourvu : d'un support de substrat (32) retenant un substrat (P) et pouvant se déplacer dans les directions de l'axe X et de l'axe Y ; d'un étage de déplacement grossier Y (24) pouvant se déplacer dans la direction de l'axe Y ; d'un premier système de mesure acquérant des informations de position du support de substrat (32) au moyen de têtes (74x, 74y) disposées sur ce support de substrat (32) et d'une échelle (72) située sur l'étage de déplacement grossier Y (24) ; d'un second système de mesure acquérant des informations de position dudit étage de déplacement grossier Y (24) au moyen de têtes (80x, 80y) disposées sur l'étage de déplacement grossier Y (24) et d'une échelle (78) ; et d'un système de commande commandant la position dudit support de substrat (32) sur la base d'informations de position acquises par les premier et second systèmes de mesure. Le premier système de mesure diffuse un faisceau de mesure tout en déplaçant les têtes (74x, 74y) dans la direction de l'axe X par rapport à l'échelle (72), et le second système de mesure diffuse un faisceau de mesure tout en déplaçant les têtes (80x, 80y) dans la direction de l'axe Y par rapport à l'échelle (78).
(JA) 移動体装置は、基板(P)を保持し、X軸及びY軸方向へ移動可能な基板ホルダ(32)と、Y軸方向へ移動可能なY粗動ステージ(24)と、基板ホルダ(32)の位置情報を、基板ホルダ(32)に設けられたヘッド(74x、74y)と、Y粗動ステージ(24)に設けられたスケール(72)とによって取得する第1計測系と、Y粗動ステージ(24)の位置情報を、Y粗動ステージ(24)に設けられたヘッド(80x、80y)と、スケール(78)とによって取得する第2計測系と、第1及び第2計測系により取得された位置情報に基づいて、基板ホルダ(32)の位置を制御する制御系と、を備え、第1計測系はヘッド(74x、74y)をスケール(72)に対してX軸方向へ移動させながら計測ビームを照射し、第2計測系はヘッド(80x、80y)をスケール(78)に対してY軸方向へ移動させながら計測ビームを照射する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)