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1. (WO2018061822) COMPOSITION DURCISSABLE POUR NANOIMPRESSION OPTIQUE
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N° de publication : WO/2018/061822 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/033416
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 15.09.2017
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,C08F 2/48 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
46
Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
48
par la lumière ultraviolette ou visible
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30
Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302
pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
306
Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
3065
Gravure par plasma; Gravure au moyen d'ions réactifs
Déposants : SAN-APRO LTD.[JP/JP]; 11, Ikkyo Nomoto-cho, Higashiyama-ku, Kyoto-shi Kyoto 6050995, JP
TOHOKU UNIVERSITY[JP/JP]; 2-1-1, Katahira, Aoba-ku, Sendai-shi Miyagi 9808577, JP
Inventeurs : SHIRAISHI Atsushi; JP
NAKAGAWA Masaru; JP
SEKI Kento; JP
Mandataire : HAYASHI Hiroshi; JP
Données relatives à la priorité :
2016-18949928.09.2016JP
Titre (EN) CURABLE COMPOSITION FOR OPTICAL NANOIMPRINT
(FR) COMPOSITION DURCISSABLE POUR NANOIMPRESSION OPTIQUE
(JA) 光ナノインプリント用硬化性組成物
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide: a curable composition for a nanoimprint, the curable composition having excellent fine pattern formability, mold release properties, and etching resistance; and a pattern formation method using the curable composition. The present invention is a curable composition for an optical nanoimprint characterized by containing, as required components, (A) an onium salt represented by formula (1), and (B) a cationically polymerizable hydrocarbon compound. (In formula (1), each Rf mutually independently represents a C1-8 alkyl group, a C2-8 alkenyl group, or a C6-10 aryl group, 80% or more of the hydrogen atoms bonded to carbon atoms of each group are substituted with fluorine atoms, n represents an integer from 1 to 5, and A+ represents a monovalent onium cation.)
(FR) Le but de la présente invention est de fournir : une composition durcissable pour une nanoimpression, la composition durcissable ayant une excellente formabilité de motif fin, des propriétés de démoulage et une résistance à la gravure; et un procédé de formation de motif utilisant la composition durcissable. La présente invention concerne une composition durcissable pour nanoimpression optique caractérisée en ce qu'elle contient, en tant que composants requis, (A) un sel d'onium représenté par la formule (1), et (B) un composé hydrocarboné polymérisable par voie cationique. (Dans la formule (1), chaque Rf représente mutuellement indépendamment un groupe alkyle C1 à 8, un groupe alcényle C2 à 8, ou un groupe aryle C6 à 10, 80 % ou plus d’atomes d’hydrogène liés aux atomes de carbone de chaque groupe étant substitués par des atomes de fluor, n représente un nombre entier d’une valeur de 1 à 5, et A+ représente un cation d’onium monovalent.)
(JA) 微細パターン形成性、モールド剥離性およびエッチング耐性に優れる光ナノインプリント用硬化性組成物およびこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 本発明は、(A)一般式(1)で表されるオニウム塩、(B)カチオン重合性炭化水素化合物を必須成分として含有することを特徴とする、光ナノインプリント用硬化性組成物である。 〔式(1)中、Rfは互いに独立して、炭素数1~8のアルキル基、炭素数2~8のアルケニル基、炭素数6~10のアリール基であり、かつそれぞれの基の炭素原子に結合した水素原子をフッ素原子で80%以上置換した基であり、nは1~5の整数であり、Aは1価のオニウムカチオンである。〕
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)