WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018061821) COMPOSITION SERVANT À FORMER UN FILM SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE, FILM SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/061821    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/033409
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 15.09.2017
CIB :
H01L 51/30 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), H01L 51/05 (2006.01), H01L 51/40 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : KARIYA, Toshihiro; (JP).
FUKUZAKI, Eiji; (JP).
GOTO, Takashi; (JP).
WATANABE, Tetsuya; (JP)
Mandataire : IIDA & PARTNERS; ISHII Bldg. 3F, 1-10, Shimbashi 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1050004 (JP).
IIDA, Toshizo; (JP).
AKABA, Shuichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-191915 29.09.2016 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC SEMICONDUCTOR FILM, ORGANIC SEMICONDUCTOR FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT
(FR) COMPOSITION SERVANT À FORMER UN FILM SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE, FILM SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE
(JA) 有機半導体膜形成用組成物、有機半導体膜及びその製造方法、並びに、有機半導体素子
Abrégé : front page image
(EN)A composition for forming an organic semiconductor film, which contains at least two organic semiconductors, and wherein one organic semiconductor is a low-molecular-weight organic semiconductor compound having a molecular weight of 5,000 or less and another organic semiconductor is a fused heterocyclic compound that is represented by a specific general formula (1) and has a chemical structure different from that of the low-molecular-weight organic semiconductor compound, while having a molecular weight of 3,000 or less; an organic semiconductor film which is formed from this composition for forming an organic semiconductor film; an organic semiconductor element; and a method for producing an organic semiconductor film.
(FR)Une composition pour former un film semi-conducteur organique, qui contient au moins deux semi-conducteurs organiques, et un semi-conducteur organique étant un composé semi-conducteur organique de faible poids moléculaire ayant un poids moléculaire de 5,000 ou moins et un autre semi-conducteur organique étant un composé hétérocyclique fusionné qui est représenté par une formule générale spécifique (1) et a une structure chimique différente de celle du composé semi-conducteur organique de faible poids moléculaire, tout en ayant un poids moléculaire de 3,000 ou moins; un film semi-conducteur organique qui est formé à partir de cette composition pour former un film semi-conducteur organique; un élément semi-conducteur organique; et un procédé de production d'un film semi-conducteur organique.
(JA)少なくとも2種の有機半導体を含有する有機半導体膜形成用組成物であって、有機半導体の1種が分子量5000以下の低分子有機半導体化合物であり、有機半導体の別の1種が特定の一般式(1)で表される縮合ヘテロ環化合物であって上記低分子有機半導体化合物と異なる化学構造を有し、かつ分子量が3000以下の縮合ヘテロ環化合物である、有機半導体膜形成用組成物、この有機半導体膜形成用組成物で形成された有機半導体膜及び有機半導体素子、並びに、有機半導体膜の製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)