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1. (WO2018061721) DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE DISPOSITIF DE TRAITEMENT

Pub. No.:    WO/2018/061721    International Application No.:    PCT/JP2017/032611
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Sep 12 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/304
B24B 7/04
Applicants: TOKYO SEIMITSU CO., LTD.
株式会社東京精密
Inventors: SHIMODA Makoto
下田 誠
KANAZAWA Masaki
金澤 雅喜
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE DISPOSITIF DE TRAITEMENT
Abstract:
La présente invention aborde le problème de la réalisation d'un dispositif de traitement permettant de rectifier uniformément des galettes maintenues par une pluralité de mandrins, et un procédé de réglage du dispositif de traitement. L'invention réalise à cet effet un dispositif de traitement (1) qui comprend des moyens de rectification grossière (5) et des moyens de rectification fine (6) qui sont disposés dans une colonne (4) chevauchant des moyens de maintien (2). Les moyens de maintien (2) comprennent : une table d'index (21); des mandrins (22) disposés de manière concentrique autour d'un arbre de rotation (2a); une première unité support mobile (24) disposée sur le côté périphérique extérieur du mandrin (22) dans la direction radiale de la table d'index; et une première unité de support fixe (25) disposée sur le côté périphérique intérieur du mandrin (22) dans la direction radiale de la table d'index. La première unité de support mobile (24) est interposée entre la table d'index (21) et le mandrin (22), et elle peut être librement déployée et contractée dans une direction verticale.