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1. (WO2018061708) PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION PLANOGRAPHIQUE POSITIVE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PLAQUE D'IMPRESSION PLANOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2018/061708 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/032371
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 07.09.2017
CIB :
G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/032 (2006.01) ,G03F 7/035 (2006.01) ,G03F 7/095 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
09
caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
11
avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
032
avec des liants
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
032
avec des liants
035
les liants étant des polyuréthanes
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
09
caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
095
ayant plus d'une couche photosensible
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
佐藤 尚志 SATO, Takashi; JP
向山 怜菜 MUKAIYAMA, Rena; JP
安原 祐一 YASUHARA, Yuichi; JP
Mandataire :
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Données relatives à la priorité :
2016-19205029.09.2016JP
2017-05471521.03.2017JP
Titre (EN) POSITIVE PLANOGRAPHIC PRINTING ORIGINAL PLATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION PLANOGRAPHIQUE POSITIVE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PLAQUE D'IMPRESSION PLANOGRAPHIQUE
(JA) ポジ型平版印刷版原版及びその製造方法、並びに、平版印刷版の作製方法
Abrégé :
(EN) A positive planographic printing original plate has at least a bottom layer, an intermediate layer, and a top layer, in the stated order, on a support body having a hydrophilic surface or a hydrophilic layer. The bottom layer includes a polymer compound 1 having in a main chain at least one structure selected from the group consisting of a urethane bond, an acetal structure, and a urea bond. The intermediate layer includes a polymer compound 2 having in a side chain at least one structure selected from the group consisting of a sulfone amide group, an active imide group, and a urea bond. The top layer includes a polymer compound 3 having a phenolic hydroxy group. At least one of the three layers contains a UV-absorbing agent. The present invention also provides a method for manufacturing the positive planographic printing original plate, and a method for producing a planographic printing plate using the positive planographic printing original plate.
(FR) L'invention concerne une plaque originale d'impression planographique positive comprenant au moins une couche inférieure, une couche intermédiaire et une couche supérieure, dans l'ordre indiqué, sur un corps de support ayant une surface hydrophile ou une couche hydrophile. La couche inférieure comprend un composé polymère (1) ayant dans une chaîne principale au moins une structure choisie dans le groupe constitué par une liaison uréthane, une structure acétal et une liaison urée. La couche intermédiaire comprend un composé polymère (2) ayant dans une chaîne latérale au moins une structure choisie dans le groupe constitué par un groupe sulfone amide, un groupe imide actif et une liaison urée. La couche supérieure comprend un composé polymère (3) ayant un groupe hydroxy phénolique. Au moins l'une des trois couches contient un agent absorbant les UV. La présente invention concerne également un procédé de fabrication de la plaque originale d'impression planographique positive et un procédé de production d'une plaque d'impression planographique utilisant la plaque originale d'impression planographique positive.
(JA) ポジ型平版印刷版原版は、親水性表面又は親水性層を有する支持体上に、下層、中間層及び上層をこの順に少なくとも有し、下層が、ウレタン結合、アセタール構造、及び、ウレア結合よりなる群から選ばれる少なくとも一つの構造を主鎖に有する高分子化合物1を含み、中間層が、スルホンアミド基、活性イミド基、及び、ウレア結合よりなる群から選ばれる少なくとも一つの構造を側鎖に有する高分子化合物2を含み、上層が、フェノール性ヒドロキシ基を有する高分子化合物3を含み、上記3層のうち1つ以上の層に赤外線吸収剤を含有する。また、上記ポジ型平版印刷版原版の製造方法、及び、上記ポジ型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)