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1. (WO2018061670) SOLUTION DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN STRATIFIÉ

Pub. No.:    WO/2018/061670    International Application No.:    PCT/JP2017/032071
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Sep 07 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/308
C11D 3/04
C11D 3/37
C11D 3/43
C11D 7/08
C11D 7/10
C11D 7/22
C11D 7/50
C11D 17/08
H01L 21/304
H01L 21/3065
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: KAMIMURA Tetsuya
上村 哲也
Title: SOLUTION DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN STRATIFIÉ
Abstract:
L'invention concerne une solution de traitement qui, tout en ayant une excellente capacité d'enlèvement pour un masque dur métallique et son résidu, est apte à supprimer la gravure d'une couche d'arrêt de gravure, et un procédé de traitement d'un stratifié. La solution de traitement est une solution de traitement pour un dispositif à semi-conducteurs, et contient un composé contenant du fluor et des ions métalliques.