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1. (WO2018061617) DISPOSITIF D'ALIMENTATION ÉLECTRIQUE HAUTE FRÉQUENCE
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N° de publication : WO/2018/061617 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/031597
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 01.09.2017
CIB :
H02M 9/06 (2006.01) ,H02M 1/00 (2007.01) ,H05H 1/46 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
02
PRODUCTION, CONVERSION OU DISTRIBUTION DE L'ÉNERGIE ÉLECTRIQUE
M
APPAREILS POUR LA TRANSFORMATION DE COURANT ALTERNATIF EN COURANT ALTERNATIF, DE COURANT ALTERNATIF EN COURANT CONTINU OU VICE VERSA OU DE COURANT CONTINU EN COURANT CONTINU ET EMPLOYÉS AVEC LES RÉSEAUX DE DISTRIBUTION D'ÉNERGIE OU DES SYSTÈMES D'ALIMENTATION SIMILAIRES; TRANSFORMATION D'UNE PUISSANCE D'ENTRÉE EN COURANT CONTINU OU COURANT ALTERNATIF EN UNE PUISSANCE DE SORTIE DE CHOC; LEUR COMMANDE OU RÉGULATION
9
Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu ou courant alternatif en une puissance de sortie de choc
06
avec une puissance d'entrée en courant alternatif
H ÉLECTRICITÉ
02
PRODUCTION, CONVERSION OU DISTRIBUTION DE L'ÉNERGIE ÉLECTRIQUE
M
APPAREILS POUR LA TRANSFORMATION DE COURANT ALTERNATIF EN COURANT ALTERNATIF, DE COURANT ALTERNATIF EN COURANT CONTINU OU VICE VERSA OU DE COURANT CONTINU EN COURANT CONTINU ET EMPLOYÉS AVEC LES RÉSEAUX DE DISTRIBUTION D'ÉNERGIE OU DES SYSTÈMES D'ALIMENTATION SIMILAIRES; TRANSFORMATION D'UNE PUISSANCE D'ENTRÉE EN COURANT CONTINU OU COURANT ALTERNATIF EN UNE PUISSANCE DE SORTIE DE CHOC; LEUR COMMANDE OU RÉGULATION
1
Détails d'appareils pour transformation
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
46
utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
Déposants :
株式会社日立国際電気 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. [JP/JP]; 東京都港区西新橋二丁目15番12号 15-12, Nishi-shimbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1058039, JP
Inventeurs :
押田 善之 OSHIDA, Yoshiyuki; JP
那須 健二 NASU, Kenji; JP
藤本 直也 FUJIMOTO, Naoya; JP
Données relatives à la priorité :
2016-18968928.09.2016JP
Titre (EN) HIGH-FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ALIMENTATION ÉLECTRIQUE HAUTE FRÉQUENCE
(JA) 高周波電源装置
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide a high-frequency power supply device that reduces fluctuations in output power. Provided is a high-frequency power supply device that comprises: a modulation circuit (002) that outputs a high-frequency signal as a pulsed high-frequency signal; a variable attenuation circuit (003) that adjusts the level of the pulsed high-frequency signal output from the modulation circuit; an output power detecting unit (005, 006, 007) that detects an output power value of the power output from the device; a first comparative arithmetic circuit (022) that outputs a first level control signal for controlling the level of the pulsed high-frequency signal, which has been adjusted by the variable attenuation circuit, on the basis of a first voltage value detected by the output power detecting unit and a set voltage value (018) set in advance as a voltage value corresponding to an output power; a second comparative arithmetic circuit (023) that outputs a second level control signal for controlling the level of the pulsed high-frequency signal, which has been adjusted by the variable attenuation circuit, on the basis of a second voltage value detected by the output power detecting unit and the set voltage value; and a switching circuit (024) that switches between the value of the first level control signal and the value of the second level control signal in accordance with a switching timing setting value.
(FR) L'invention concerne un dispositif d'alimentation électrique haute fréquence qui réduit les fluctuations de la puissance de sortie. Le dispositif d'alimentation électrique haute fréquence selon l'invention comprend : un circuit de modulation (002) qui émet en sortie un signal haute fréquence sous la forme d'un signal haute fréquence pulsé; un circuit d'atténuation variable (003) qui règle le niveau du signal haute fréquence pulsé émis en sortie par le circuit de modulation; une unité de détection de puissance de sortie (005, 006, 007) qui détecte une valeur de puissance de sortie de la sortie de puissance provenant du dispositif; un premier circuit arithmétique comparatif (022) qui émet en sortie un premier signal de commande de niveau pour commander le niveau du signal haute fréquence pulsé qui a été réglé par le circuit d'atténuation variable, en fonction d'une première valeur de tension détectée par l'unité de détection de puissance de sortie et d'une valeur de tension définie (018) réglée à l'avance comme valeur de tension correspondant à une puissance de sortie; un deuxième circuit arithmétique comparatif (023) qui émet en sortie un deuxième signal de commande de niveau pour commander le niveau du signal haute fréquence pulsé qui a été réglé par le circuit d'atténuation variable, en fonction d'une deuxième valeur de tension détectée par l'unité de détection de puissance de sortie et de la valeur de tension définie; et un circuit de commutation (024) qui commute entre la valeur du premier signal de commande de niveau et la valeur du deuxième signal de commande de niveau en fonction d'une valeur de réglage de synchronisation de commutation.
(JA) 出力電力の変動を低減する高周波電源装置を提供することにある。高周波電源装置は、高周波信号をパルス状高周波信号として出力する変調回路(002)と、前記変調回路から出力されるパルス状高周波信号のレベルを調整する可変減衰回路(003)と、該装置から出力される電力の出力電力値を検出する出力電力検出部(005)(006)(007)と、前記出力電力検出部で検出した第一電圧値と予め出力電力に対応する電圧値として設定された設定電圧値(018)とに基づき、前記可変減衰回路で調整されるパルス状高周波信号のレベルを制御する第一レベル制御信号を出力する第一比較演算回路(002)と、前記出力電力検出部で検出した第二電圧値と前記設定電圧値とに基づき、前記可変減衰回路で調整されるパルス状高周波信号のレベルを制御する第二レベル制御信号を出力する第二比較演算回路(023)と、切替えタイミング設定値に応じて、前記第一レベル制御信号と前記第二レベル制御信号の値を切替る切替え回路(024)と、を備える。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)