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1. (WO2018061445) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/061445    International Application No.:    PCT/JP2017/027228
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Jul 28 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/306
H01L 21/304
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: HIGUCHI Ayumi
樋口 鮎美
Title: DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract:
La présente invention a pour objet de permettre une récupération rapide des performances d'élimination d'ions métalliques dans un dispositif de traitement de substrat. L'invention réalise à cet effet un dispositif de traitement de substrat (1) qui est pourvu d'une unité de traitement (11), d'un réservoir d'alimentation (12) et d'un réservoir de récupération (13). Un processus de gravure est effectué sur un substrat (9), dans l'unité de traitement (11), en utilisant un liquide de traitement (91) provenant d'un premier trajet de circulation (211). Après utilisation, le liquide de traitement (91) est acheminé vers le réservoir de récupération (13) et mis en circulation à travers un deuxième trajet de circulation (223). Le deuxième trajet de circulation (223) comprend une première tuyauterie partielle (223a) et une deuxième tuyauterie partielle (223b), la première tuyauterie partielle (223a) ayant une paroi intérieure pourvue d'un revêtement d'élimination de métal (233) qui contient une base de capture de métal qui élimine les ions métalliques dans le liquide de traitement. La première tuyauterie partielle (223a) est alimentée par une solution chimique à base d'acide (92) provenant d'une unité d'alimentation (24) en solution chimique à base d'acide de façon à régénérer la capacité d'adsorption de métal de la base de capture de métal.