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1. (WO2018061405) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS

Pub. No.:    WO/2018/061405    International Application No.:    PCT/JP2017/025405
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Jul 13 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/306
G02F 1/13
G11B 5/84
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: MATSUI Norimasa
松井 則政
Title: APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS
Abstract:
La présente invention a pour objet de supprimer les dommages à un substrat et d'améliorer l'efficacité de traitement d'un substrat. L'invention réalise à cet effet un appareil de traitement de substrat comprenant : un réservoir de traitement qui reçoit une solution aqueuse d'acide phosphorique et grave un substrat immergé dans la solution aqueuse d'acide phosphorique ; un mécanisme d'alimentation en vapeur d'eau qui fournit de la vapeur d'eau ; un mécanisme d'alimentation en gaz inerte qui fournit un gaz inerte ; un mécanisme de mélange qui reçoit la vapeur d'eau provenant du mécanisme d'alimentation en vapeur d'eau, reçoit le gaz inerte provenant du mécanisme d'alimentation en gaz inerte et mélange la vapeur d'eau reçue et le gaz inerte en vue de produire un gaz mélangé ; un générateur de bulles qui reçoit le gaz mélangé provenant du mécanisme de mélange, souffle le gaz mélangé fourni dans la solution aqueuse d'acide phosphorique et génère des bulles dans le gaz mélangé ; et un mécanisme de régulation de débit qui régule le débit de la vapeur d'eau fournie par le mécanisme d'alimentation en vapeur d'eau et le débit du gaz inerte fourni par le mécanisme d'alimentation en gaz inerte de sorte que l'humidité du gaz mélangé atteigne une humidité cible.