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1. (WO2018061237) DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT
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N° de publication : WO/2018/061237 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/003849
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 02.02.2017
CIB :
H05B 33/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
02
Détails
04
Dispositions pour l'étanchéité
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
Déposants :
パイオニア株式会社 PIONEER CORPORATION [JP/JP]; 東京都文京区本駒込二丁目28番8号 28-8, Honkomagome 2-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1130021, JP
Inventeurs :
藤森 二郎 FUJIMORI Jiro; JP
Mandataire :
速水 進治 HAYAMI Shinji; JP
天城 聡 AMAGI Satoshi; JP
Données relatives à la priorité :
2016-19299230.09.2016JP
Titre (EN) LIGHT-EMITTING DEVICE
(FR) DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT
(JA) 発光装置
Abrégé :
(EN) A coating layer (240) is formed by Atomic Layer Deposition (ALD) and includes an insulating inorganic material. An intermediate layer (220) includes a material having a linear expansion coefficient different from that of the material in the coating layer (240). A buffer layer (230) has a first surface in contact with the intermediate layer (220). The buffer layer (230) has a second surface that comes in contact with the coating layer (240). The difference between the linear expansion coefficients for the material in the buffer layer (230) and the inorganic material in the coating layer (240) is smaller than the difference between the linear expansion coefficients for the material in the intermediate layer (220) and the inorganic material in the coating layer (240).
(FR) Une couche de revêtement (240) est formée par dépôt de couche atomique (ALD) et comprend un matériau inorganique isolant. Une couche intermédiaire (220) comprend un matériau ayant un coefficient de dilatation linéique différent de celui du matériau dans la couche de revêtement (240). Une couche tampon (230) a une première surface en contact avec la couche intermédiaire (220). La couche tampon (230) a une seconde surface qui vient en contact avec la couche de revêtement (240). La différence entre les coefficients de dilatation linéique pour le matériau dans la couche tampon (230) et le matériau inorganique dans la couche de revêtement (240) est inférieure à la différence entre les coefficients de dilatation linéique pour le matériau dans la couche intermédiaire (220) et le matériau inorganique dans la couche de revêtement (240).
(JA) 被覆層(240)は、ALD(Atomic Layer Deposition)によって形成された層であり、絶縁性の無機材料を含んでいる。中間層(220)は、被覆層(240)の材料と異なる線膨張係数を有する材料を含んでいる。バッファ層(230)は、中間層(220)と接する面、すなわち第1面を有している。バッファ層(230)は、被覆層(240)と接する面、すなわち第2面を有している。バッファ層(230)の材料と被覆層(240)の無機材料の線膨張係数の差は、中間層(220)の材料と被覆層(240)の無機材料の線膨張係数の差より小さくなっている。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)