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1. (WO2018061237) DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT
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N° de publication :    WO/2018/061237    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/003849
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 02.02.2017
CIB :
H05B 33/04 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
Déposants : PIONEER CORPORATION [JP/JP]; 28-8, Honkomagome 2-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1130021 (JP)
Inventeurs : FUJIMORI Jiro; (JP)
Mandataire : HAYAMI Shinji; (JP).
AMAGI Satoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-192992 30.09.2016 JP
Titre (EN) LIGHT-EMITTING DEVICE
(FR) DISPOSITIF ÉLECTROLUMINESCENT
(JA) 発光装置
Abrégé : front page image
(EN)A coating layer (240) is formed by Atomic Layer Deposition (ALD) and includes an insulating inorganic material. An intermediate layer (220) includes a material having a linear expansion coefficient different from that of the material in the coating layer (240). A buffer layer (230) has a first surface in contact with the intermediate layer (220). The buffer layer (230) has a second surface that comes in contact with the coating layer (240). The difference between the linear expansion coefficients for the material in the buffer layer (230) and the inorganic material in the coating layer (240) is smaller than the difference between the linear expansion coefficients for the material in the intermediate layer (220) and the inorganic material in the coating layer (240).
(FR)Une couche de revêtement (240) est formée par dépôt de couche atomique (ALD) et comprend un matériau inorganique isolant. Une couche intermédiaire (220) comprend un matériau ayant un coefficient de dilatation linéique différent de celui du matériau dans la couche de revêtement (240). Une couche tampon (230) a une première surface en contact avec la couche intermédiaire (220). La couche tampon (230) a une seconde surface qui vient en contact avec la couche de revêtement (240). La différence entre les coefficients de dilatation linéique pour le matériau dans la couche tampon (230) et le matériau inorganique dans la couche de revêtement (240) est inférieure à la différence entre les coefficients de dilatation linéique pour le matériau dans la couche intermédiaire (220) et le matériau inorganique dans la couche de revêtement (240).
(JA)被覆層(240)は、ALD(Atomic Layer Deposition)によって形成された層であり、絶縁性の無機材料を含んでいる。中間層(220)は、被覆層(240)の材料と異なる線膨張係数を有する材料を含んでいる。バッファ層(230)は、中間層(220)と接する面、すなわち第1面を有している。バッファ層(230)は、被覆層(240)と接する面、すなわち第2面を有している。バッファ層(230)の材料と被覆層(240)の無機材料の線膨張係数の差は、中間層(220)の材料と被覆層(240)の無機材料の線膨張係数の差より小さくなっている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)