WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018061098) DISPOSITIF LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/061098    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/078540
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 27.09.2016
CIB :
H01S 3/137 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
Inventeurs : MIYAMOTO, Hirotaka; (JP).
WAKABAYASHI, Osamu; (JP)
Mandataire : YANAGIDA, Masashi; (JP).
SAKUMA, Tsuyoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LASER DEVICE
(FR) DISPOSITIF LASER
(JA) レーザ装置
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To reduce the heat load applied to a band-narrowing optical system, in a discharge excitation-type laser device provided with the band-narrowing optical system. [Solution] This laser device is provided with: a laser chamber (10) in which a pair of discharge electrodes (11a, 11b) are disposed; and a band-narrowing optical system (14) including a grating (14e) disposed outside the laser chamber (10). The laser device is further provided with a beam expander optical system which expands, in a first direction parallel to the discharge direction between the discharge electrodes (11a, 11b), and a second direction orthogonal to the discharge direction, the diameter of a light beam (B) which is outputted from the laser chamber (10) and which travels towards the grating (14e). The beam expander optical system is held on a holding platform (41) which is formed separately from the laser chamber (10) and the grating (14e). A beam expander unit (40) is formed from the holding platform (41) and the beam expander optical system.
(FR)Le problème décrit par la présente invention est de réduire la charge thermique appliquée à un système optique à rétrécissement de bande, dans un dispositif laser de type à excitation par décharge pourvu du système optique à rétrécissement de bande. À cet effet, l'invention concerne un dispositif laser qui est pourvu : d'une chambre laser (10) dans laquelle sont disposées une paire d'électrodes de décharge (11a, 11b) ; et d'un système optique à rétrécissement de bande (14) comprenant un réseau (14e) disposé à l'extérieur de la chambre laser (10). Le dispositif laser est en outre pourvu d'un système optique de dilatateur de faisceau qui augmente, dans une première direction parallèle à la direction de décharge entre les électrodes de décharge (11a, 11b), et dans une seconde direction orthogonale à la direction de décharge, le diamètre d'un faisceau lumineux (B) qui est émis à partir de la chambre laser (10) et qui se déplace vers le réseau (14e). Le système optique de dilatateur de faisceau est maintenu sur une plate-forme de maintien (41) qui est formée séparément de la chambre laser (10) et du réseau (14e). Une unité d'expansion de faisceau (40) est constituée de la plate-forme de maintien (41) et du système optique de dilatateur de faisceau.
(JA)【課題】狭帯域化光学系を備えた放電励起式のレーザ装置において、狭帯域化光学系に加わる熱負荷を低減する。 【解決手段】レーザ装置は、一対の放電電極(11a、11b)が内部に配置されたレーザチャンバ(10)と、レーザチャンバ(10)の外に配置されたグレーティング(14e)を含む狭帯域化光学系(14)とを備える。レーザ装置はさらに、レーザチャンバ(10)から出力されてグレーティング(14e)に向かって進行する光ビーム(B)を、放電電極(11a、11b)の間の放電方向と平行な第1の方向、および放電方向に垂直な第2の方向にビーム径を拡大させるビームエキスパンダ光学系を備える。ビームエキスパンダ光学系は、レーザチャンバ(10)およびグレーティング(14e)と別体に形成された保持台(41)に保持される。保持台(41)およびビームエキスパンダ光学系によりビームエキスパンダユニット(40)が構成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)