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1. (WO2018059836) SUBSTRAT, SUPPORT DE SUBSTRAT, APPAREIL DE REVÊTEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT DU SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION DU REVÊTEMENT

Pub. No.:    WO/2018/059836    International Application No.:    PCT/EP2017/071179
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Aug 24 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/16
B05D 1/18
C23C 16/455
H01L 21/687
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: ACHANTA, Satish
WELTERS, Wilhelmus, Jacobus, Johannes
SOETHOUDT, Abraham, Alexander
KAMMINGA, Jelmer, Mattheüs
LIEDECKE, Christian
Title: SUBSTRAT, SUPPORT DE SUBSTRAT, APPAREIL DE REVÊTEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT DU SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION DU REVÊTEMENT
Abstract:
La présente invention concerne un substrat (100), un support de substrat (200), un appareil de revêtement de substrat (800, 801), un procédé de revêtement du substrat (100) et un procédé d'élimination du revêtement (102). Une couche monomoléculaire (102) est appliquée sur la face arrière (101) du substrat ou sur une surface de serrage (201) du support de substrat (200). La force de frottement entre le côté arrière du substrat et le substrat est faible lorsque le substrat ne subit pas de force de serrage complète (210). Après le chargement du substrat (100) sur le support de substrat (200), une force de serrage complète (210) est exercée afin de fixer le substrat. La force de serrage provoque un retrait local de la couche monomoléculaire (102), ce qui entraîne une augmentation de la force de frottement entre le substrat (100) et le support de substrat (200).