WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018059702) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SYSTÈME, SYSTÈME ET COMPOSANT OPTOÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/059702    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/073345
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 29.09.2016
CIB :
C23C 16/40 (2006.01), C23C 16/56 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), H01L 51/52 (2006.01), H01L 33/52 (2010.01)
Déposants : OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH [DE/DE]; Leibnizstr. 4 93055 Regensburg (DE)
Inventeurs : RÜCKERL, Andreas; (DE)
Mandataire : EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Schloßschmidstr. 5 80639 München (DE)
Données relatives à la priorité :
Titre (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER VORRICHTUNG, VORRICHTUNG UND OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT
(EN) METHOD FOR PRODUCING A DEVICE, DEVICE AND OPTOELECTRONIC COMPONENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SYSTÈME, SYSTÈME ET COMPOSANT OPTOÉLECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(DE)Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit den folgenden Schritten angegeben: - Bereitstellen eines Trägers (1), - Abscheiden einer amorphen ALD-Schicht (2) auf dem Träger (1) mit Hilfe eines ALD-Verfahrens, und - Rekristallisation der amorphen ALD-Schicht (2) in eine kristalline Schicht (3). Außerdem werden eine Vorrichtung und ein optoelektronisches Bauelement angegeben.
(EN)The invention relates to a method for producing a device, comprising the following steps: - providing a support (1), - depositing an amorphous ALD layer (2) on the support (1) with the aid of an ALD method, and - recrystallization of the amorphous ALD layer (2) in a crystalline layer (3). The invention also relates to a device and to an optoelectronic component.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication d’un système comprenant les étapes suivantes consistant à : - prendre un substrat (1), - déposer une couche ALD amorphe (2) sur le substrat (1) selon un procédé ALD -dépôt de couches atomiques-, et - procéder à la recrystallisation de la couche ALD (2) amorphe afin d’obtenir une couche crystalline (3). L’invention concerne également un système et un composant optoélectronique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)