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1. (WO2018059609) PROCÉDÉ DE COMMANDE DU DÉBIT DE DÉPÔT DE FILMS MINCES DANS UN SYSTÈME PLASMA À BUSES MULTIPLES SOUS VIDE ET DISPOSITIF POUR LA MISE EN ŒUVRE DU PROCÉDÉ

Pub. No.:    WO/2018/059609    International Application No.:    PCT/CZ2017/050044
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Sep 28 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01J 37/317
C23C 14/00
Applicants: FYZIKALNI USTAV AV CR, V.V.I.
Inventors: OLEJNICEK, Jiri
SMID, Jiri
HUBICKA, Zdenek
ADAMEK, Petr
CADA, Martin
KMENT, Stepan
Title: PROCÉDÉ DE COMMANDE DU DÉBIT DE DÉPÔT DE FILMS MINCES DANS UN SYSTÈME PLASMA À BUSES MULTIPLES SOUS VIDE ET DISPOSITIF POUR LA MISE EN ŒUVRE DU PROCÉDÉ
Abstract:
L'invention concerne un procédé de commande du débit de dépôt de film dans un système à jet multi-plasma sous vide utilisant des réactions chimiques par plasma dans une zone de décharge active, le système comprenant au moins une série de buses à plasma (4) dont les tubes de travail (42) sont terminés par une cathode creuse dont la bouche est située à proximité de la zone supérieure du système de maintien (2) avec le substrat stocké (3) le principe de la solution consiste à déposer le film mince sur le substrat (3) après l'allumage individuel des décharges dans chaque buse à plasma (4) et dans la commande de leurs paramètres au moyen de sources externes (6) de tension, la température de chaque cathode creuse (44) est surveillée par des moyens (8) de mesure de température sans contact et sur la base de l'évaluation des valeurs de température mesurées, les réglages des paramètres de décharge sont fournis, à l'aide d'une unité de commande (9), en particulier le courant efficace est régulé dans chacune des buses à plasma (4) de telle sorte que les débits de dépôt de toutes les cathodes creuses (44) des buses à plasma (4) sont les mêmes. L'essence de l'invention est également un dispositif pour fournir un procédé de commande du débit de dépôt.