WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018058501) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF ET SON UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/058501    N° de la demande internationale :    PCT/CN2016/101019
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 30.09.2016
CIB :
G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : HSU, Ming-An [CN/CN]; (CN).
LIN, Wen-Fu [CN/CN]; (CN)
Inventeurs : LIN, Wen-Fu; (CN).
HSU, Ming-An; (CN)
Mandataire : BEIJING HUIZE INTELLECTUAL PROPERTY LAW LLC; ZHANG, Jin A18, Horizon International Tower, No.6, Zhichun Road, Haidian District Beijing 100088 (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) NEGATIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND USE THEREOF
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF ET SON UTILISATION
(ZH) 负型光阻组成物及其用途
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a negative-type photoresist composition and a use thereof. The negative-type photoresist composition comprises a negative-type photoresist (21) and sheet-shaped structure powders (40). The sheet-shaped structure powders (40) account for 0.5-80% weight percent of the negative-type photoresist composition, and a monomer of the sheet-shaped structure powders (40) is of a sheet-shaped structure, with the length thereof ranging from 0.2 μm to 10 μm. The negative-type photoresist composition is used for being formed on a substrate (10) and forming a permanent pattern so as to change the reflectivity of the substrate (10), such that the substrate (10) can present different colours or metallic lustres at different angles.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible de type négatif et son utilisation. La composition de résine photosensible de type négatif comprend une résine photosensible de type négatif (21) et des poudres de structure en forme de feuille (40). Les poudres de structure en forme de feuille (40) représentent de 0,5 à 80 % en poids de la composition de résine photosensible de type négatif, et un monomère des poudres de structure en forme de feuille (40) possède une structure en forme de feuille, dont la longueur est comprise entre 0,2 µm et 10 µm. La composition de résine photosensible de type négatif est destinée à être formée sur un substrat (10) et à former un motif permanent de façon à modifier la réflectivité du substrat (10), de telle sorte que le substrat (10) peut présenter des couleurs différentes ou des lustres métalliques à différents angles.
(ZH)一种负型光阻组成物及其用途,负型光阻组成物包含:负型光阻剂(21)与片状结构粉末(40);其中,片状结构粉末(40)占负型光阻组成物的重量百分比为0.5%-80%之间,片状结构粉末(40)的单体为片状结构,长介于0.2μm-10μm之间;其中,负型光阻组成物用于形成于基材(10)上而形成永久图案,以改变基材(10)的反射率,使基材(10)于不同角度可呈现不同颜色或金属光泽。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)