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1. (WO2018058341) SOLVANTS À BASE DE SULFOXYDE/ÉTHER DE GLYCOL DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS DANS L'INDUSTRIE ÉLECTRONIQUE
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N° de publication : WO/2018/058341 N° de la demande internationale : PCT/CN2016/100460
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 28.09.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 08.09.2017
CIB :
G03F 7/42 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26
Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
42
Elimination des réserves ou agents à cet effet
Déposants :
JIANG, Qi [CN/CN]; CN (SC)
REN, Hua [CN/CN]; CN (SC)
JIANG, Xin [CN/CN]; CN (SC)
KIM, Eung Kyu [KR/US]; US (SC)
DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC [US/US]; 2040 Dow Center Midland, Michigan 48674, US
Inventeurs :
JIANG, Qi; CN
REN, Hua; CN
JIANG, Xin; CN
KIM, Eung Kyu; US
Mandataire :
WU, FENG & ZHANG; 3 FL, Building 2, Yard 3, FengXiuZhongLu Road, Haidian District Beijing 100094, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SULFOXIDE/GLYCOL ETHER BASED SOLVENTS FOR USE IN THE ELECTRONICS INDUSTRY
(FR) SOLVANTS À BASE DE SULFOXYDE/ÉTHER DE GLYCOL DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS DANS L'INDUSTRIE ÉLECTRONIQUE
Abrégé :
(EN) Solvents useful for removing, among other things, photoresists and poly(amic acid)/polyimide from display/semiconductor substrates or electronic processing equipment, consist essentially of: (A) a first component consisting of a sulfoxide, e.g., DMSO; (B) a second component consisting of a glycol ether, e.g., ethylene glycol monobutyl ether; and (C) a third component consisting of at least one of N-formyl morpholine, N, N-dimethyl propionamide, 3-methoxy-N, N-dimethyl propanamide, and triethyl phosphate.
(FR) Cette invention concerne des solvants utiles pour éliminer, entre autres, des couches photorésistantes et du poly(acide amique)/polyimide à partir de substrats d'affichage/semi-conducteurs ou d'équipement de traitement électronique, comprenant essentiellement : (A) un premier constituant fait d'un sulfoxyde, par exemple du DMSO; (B) un deuxième constituant fait d'un éther de glycol, par exemple du monobutyléther d'éthylène-glycol; et (C) un troisième constituant fait d'au moins l'un des éléments suivants : N-formyl-morpholine, N, N-diméthyl-propionamide, 3-méthoxy-N, le N-diméthyl propanamide et phosphate de triéthyle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)