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1. (WO2018058339) SOLVANTS DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS DANS L'INDUSTRIE ÉLECTRONIQUE
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N° de publication : WO/2018/058339 N° de la demande internationale : PCT/CN2016/100458
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 28.09.2016
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 08.09.2017
CIB :
G03F 7/42 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26
Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
42
Elimination des réserves ou agents à cet effet
Déposants : JIANG, Qi[CN/CN]; CN (SC)
REN, Hua[CN/CN]; CN (SC)
JIANG, Xin[CN/CN]; CN (SC)
KIM, Eung Kyu[KR/US]; US (SC)
DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC[US/US]; 2040 Dow Center Midland Michigan 48674, US
Inventeurs : JIANG, Qi; CN
REN, Hua; CN
JIANG, Xin; CN
KIM, Eung Kyu; US
Mandataire : WU, FENG & ZHANG; 3 FL, Building 2, Yard 3, FengXiuZhongLu Road, Haidian District Beijing 100094, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SOLVENTS FOR USE IN THE ELECTRONICS INDUSTRY
(FR) SOLVANTS DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS DANS L'INDUSTRIE ÉLECTRONIQUE
Abrégé :
(EN) Solvents useful for removing, among other things, photoresists and poly(amic acid)/polyimide from display/semiconductor substrates or electronic processing equipment, consist essentially of: (A) a first component consisting of at least one of dimethyl sulfoxide (DMSO) and N-formyl morpholine, and (B) a second component consisting of at least one of N, N-dimethyl propionamide, 3-methoxy-N, N-dimethyl propanamide, N, N-dimethyl acetoacetamide and N-methyl-ε-caprolactam.
(FR) L'invention concerne des solvants utiles pour éliminer, entre autres, des photorésines et de l'acide polyamique/polyimide de substrats semi-conducteurs/d'affichage ou d'équipement de traitement électronique. Ces solvants sont constitués principalement : (A) d'un premier composant constitué au moins de diméthylsulfoxyde (DMSO) ou de N-formylmorpholine, et (B) d'un deuxième composant constitué d'au moins un élément parmi N, N-diméthyl-propionamide, 3-méthoxy-N, N-diméthyl propanamide, N, N-diméthyl-acétoacétamide et N-méthyl-ε-caprolactame.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)