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1. (WO2018058135) RÉSINE DE PDMS POUR IMPRESSION 3D PAR STÉRÉOLITHOGRAPHIE DE PDMS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/058135    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/053526
Date de publication : 29.03.2018 Date de dépôt international : 26.09.2017
CIB :
B05D 3/06 (2006.01), C08G 77/382 (2006.01), C08G 77/392 (2006.01), C08G 77/44 (2006.01), C08G 77/38 (2006.01), C08G 77/42 (2006.01), C08G 77/28 (2006.01), C08G 77/04 (2006.01), C08L 83/08 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF WASHINGTON [US/US]; 4311 11th Avenue Northeast, Suite 500 Seattle, WA 98105-4608 (US)
Inventeurs : FOLCH, Albert; (US).
BHATTACHARJEE, Nirveek; (US).
PARRA, Cesar; (US)
Mandataire : RENZONI, George, E.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/399,610 26.09.2016 US
Titre (EN) PDMS RESIN FOR STEREOLITHOGRAPHIC 3D-PRINTING OF PDMS
(FR) RÉSINE DE PDMS POUR IMPRESSION 3D PAR STÉRÉOLITHOGRAPHIE DE PDMS
Abrégé : front page image
(EN)Photocurable poly(siloxane) formulations for making stereolithographic 3D-printed PDMS structures, stereolithographic 3D-printing methods for making PDMS structures, and stereolithographic 3D-printed PDMS structures.
(FR)L'invention concerne des formulations de poly(siloxane) photodurcissables destinées à la fabrication de structures de PDMS imprimées en 3D par stéréolithographie, des procédés d'impression 3D par stéréolithographie permettant de fabriquer des structures de PDMS, ainsi que des structures de PDMS imprimées en 3D par stéréolithographie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)