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1. (WO2018057584) MATÉRIAUX ACTIFS DE CATHODE PRÉSENTANT DES MORPHOLOGIES DE PARTICULES AMÉLIORÉES
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N° de publication :    WO/2018/057584    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/052436
Date de publication : 29.03.2018 Date de dépôt international : 20.09.2017
CIB :
C01G 51/00 (2006.01), C01G 51/04 (2006.01), C01G 53/00 (2006.01), H01M 4/485 (2010.01)
Déposants : APPLE INC. [US/US]; One Infinite Loop Cupertino, California 95014 (US)
Inventeurs : DAI, Hongli; (US).
WU, Huiming; (US).
WANG, Dapeng; (US)
Mandataire : WORRALL, Timothy A.; (US).
VINNOLA, Milan M.; (US).
HE, Jing; (US).
CLOTHIER, Brent A.; (US).
D'AGOSTIN, Rhiannon I.; (US).
DURBIN, Gregory P.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/397,019 20.09.2016 US
Titre (EN) CATHODE ACTIVE MATERIALS HAVING IMPROVED PARTICLE MORPHOLOGIES
(FR) MATÉRIAUX ACTIFS DE CATHODE PRÉSENTANT DES MORPHOLOGIES DE PARTICULES AMÉLIORÉES
Abrégé : front page image
(EN)Mixed-metal oxides and lithiated mixed-metal oxides are disclosed that involve compounds according to, respectively, NixMnyCozMeαOβ and Li1+yNixMnyCozMe αOβ. In these compounds, Me is selected from B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Cu, Zn, Ga, Ge, Zr, Nb, Mo, Ru, Ag, In, and combinations thereof; 0 ≤ x ≤1; 0 ≤y ≤ 1; 0 ≤ z < 1; x + y + z > 0; 0 ≤ α ≤ 0.5; and x + y + α> 0. For the mixed-metal oxides, 1 ≤ β ≤ 5. For the lithiated mixed-metal oxides, -0.1 ≤ γ ≤ 1.0 and 1.9 ≤ β ≤ 3. In some variations, the mixed- metal oxides and the lithiated mixed-metal oxides include particles having an average density greater than or equal to 90% of an ideal crystalline density. In some variations, the mixed- metal oxides and the lithiated mixed-metal oxides include primary particles that include a first portion having a mean particle size between 1 and 50 μm. Methods of manufacturing the mixed-metal oxides and the lithiated mixed-metal oxides are also disclosed.
(FR)La présente invention concerne des oxydes de métaux mixtes et des oxydes de métaux mixtes lithiés qui comprennent des composés respectivement conformes à NixMnyCozMeαOβ et Li1+yNixMnyCozMeαOβ. Dans ces composés, Me est choisi parmi B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Fe, Cu, Zn, Ga, Ge, Zr, Nb, Mo, Ru, Ag, In, et des combinaisons de ceux-ci ; 0 ≤ x ≤1 ; 0 ≤ y ≤ 1 ; 0 ≤ z < 1 ; x + y + z > 0 ; 0 ≤ α ≤ 0,5 ; et x + y + α > 0. Pour les oxydes de métaux mixtes, 1 ≤ β ≤ 5. Pour les oxydes de métaux mixtes lithiés, -0,1 ≤ γ ≤ 1,0 et 1,9 ≤ β ≤ 3. Dans certaines variantes, les oxydes de métaux mixtes et les oxydes de métaux mixtes lithiés comprennent des particules ayant une masse volumique moyenne supérieure ou égale à 90 % d'une masse volumique cristalline idéale. Dans certaines variantes, les oxydes de métaux mixtes et les oxydes de métaux mixtes lithiés comprennent des particules primaires qui comprennent une première partie ayant une taille de particule moyenne comprise entre 1 et 50 µm. L'invention concerne également des procédés de fabrication des oxydes de métaux mixtes et des oxydes de métaux mixtes lithiés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)