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1. (WO2018057397) PROCÉDÉS ET APPAREIL DE DÉTECTION DE POINT LIMITE DE NETTOYAGE DE CHAMBRE DE TRAITEMENT
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N° de publication : WO/2018/057397 N° de la demande internationale : PCT/US2017/051630
Date de publication : 29.03.2018 Date de dépôt international : 14.09.2017
CIB :
H01L 21/67 (2006.01) ,C23C 16/44 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44
caractérisé par le procédé de revêtement
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
CHOI, Young-Jin; US
CHO, Su Ho; US
PARK, Beomsoo; US
PENG, Fei; US
CHOI, Soo Young; US
Mandataire :
DUGAN, Brian M.; US
DUGAN, Valerie G.; US
TOSTADO, Paula; US
WILSON, James C.; US
GHEORGHIU, Anca; US
KWONG, Raymond Kam-on; US
DAO, Mimi-Diemmy; US
WAYLAND, Randall S.; US
CHOI, Changhoon; US
FABER, Scott; US
HWANG, David; US
TUMA, Garry J.; US
MIZUMOTO, Edmund; US
BALUN, Matthew; US
Données relatives à la priorité :
15/273,63122.09.2016US
Titre (EN) METHODS AND APPARATUS FOR PROCESSING CHAMBER CLEANING END POINT DETECTION
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREIL DE DÉTECTION DE POINT LIMITE DE NETTOYAGE DE CHAMBRE DE TRAITEMENT
Abrégé :
(EN) Embodiments provide systems, methods and apparatus for detecting a cleaning endpoint of a cleaning process performed within a processing chamber. Embodiments include a spectrometer adapted to measure a spectrum response over time of a cleaning reaction within a processing chamber during a cleaning process; and a lens system coupled to the spectrometer and disposed to focus on a selected area within the processing chamber via a viewport and to amplify intensity of radiation from the selected area during the cleaning process. The selected area is chosen based on being the expected location of the last cleaning reaction during the cleaning process within the processing chamber (e.g., a corner in a rectangular chamber). Numerous other aspects are provided.
(FR) Des modes de réalisation de la présente invention concernent des systèmes, des procédés et un appareil de détection d'un point limite de nettoyage d'un processus de nettoyage effectué à l'intérieur d'une chambre de traitement. Des modes de réalisation comprennent un spectromètre conçu pour mesurer une réponse de spectre au fil du temps d'une réaction de nettoyage à l'intérieur d'une chambre de traitement pendant un processus de nettoyage ; et un système de lentille couplé au spectromètre et agencé pour se focaliser sur une zone sélectionnée à l'intérieur de la chambre de traitement par l'intermédiaire d'une fenêtre d'affichage et pour amplifier l'intensité du rayonnement à partir de la zone sélectionnée pendant le processus de nettoyage. La zone sélectionnée est choisie sur la base de l'emplacement attendu de la dernière réaction de nettoyage pendant le processus de nettoyage à l'intérieur de la chambre de traitement (par exemple, un coin dans une chambre rectangulaire). L'invention concerne également de nombreux autres aspects.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)