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1. (WO2018056370) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT DUR RÉSISTANT AUX RAYURES
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N° de publication :    WO/2018/056370    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/034143
Date de publication : 29.03.2018 Date de dépôt international : 21.09.2017
CIB :
C08F 290/06 (2006.01), B05D 3/06 (2006.01), B05D 5/00 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), C08J 7/04 (2006.01), C09D 4/02 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : HARAGUCHI, Masayuki; (JP)
Mandataire : HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-184635 21.09.2016 JP
Titre (EN) SCRATCH-RESISTANT HARD COATING MATERIAL
(FR) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT DUR RÉSISTANT AUX RAYURES
(JA) 耐擦傷性ハードコート材
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a material for forming a hard coating layer, which has excellent low-foaming properties, while enabling the achievement of high scratch resistance. [Solution] A curable composition which contains (a) 100 parts by mass of an active energy ray-curable polyfunctional monomer, (b) 0.1-10 parts by mass of a perfluoropolyether which has an active energy ray-polymerizable group at both ends of a molecular chain containing a poly(oxyperfluoroalkylene) group via a poly(oxyalkylene) group or via a poly(oxyalkylene) group and one urethane bond in this order, (c) 1-20 parts by mass of a polymerization initiator which generates radicals by means of an active energy ray, (d) 0.0001-0.004 part by mass of an antifoaming agent which is composed of a fluorosilicone compound that has a fluorine content of 31% by mass or more, while having a weight average molecular weight of 10,000 to 200,000 in terms of polystyrene, and (e) an organic solvent; and a hard coating film which comprises a hard coating layer that is composed of a cured film formed from this composition.
(FR)La présente invention aborde le problème consistant à fournir un matériau destiné à former une couche de revêtement dure, qui possède d'excellentes propriétés de faible moussage, tout en permettant d'atteindre une résistance élevée aux rayures. La solution selon l'invention porte sur une composition durcissable qui renferme (a) 100 parties en masse d'un monomère polyfonctionnel durcissable par un rayonnement d'énergie active, (b) 0,1 à 10 parties en masse d'un perfluoropolyéther qui possède un groupe polymérisable par un rayonnement d'énergie active aux deux extrémités d'une chaîne moléculaire renfermant un groupe poly(oxyperfluoroalkylène) par l'intermédiaire d'un groupe poly(oxyalkylène) ou par l'intermédiaire, dans cet ordre, d'un groupe poly(oxyalkylène) et d'une liaison uréthanne, (c) 1 à 20 parties en masse d'un amorceur de polymérisation qui produit des radicaux au moyen d'un rayonnement d'énergie active, (d) 0,0001 à 0,004 partie en masse d'un agent antimoussant, qui est composé d'un composé fluorosilicone possédant une teneur en fluor de 31 % en masse ou plus tout en possédant une masse moléculaire moyenne en masse de 10 000 à 200 000, exprimée en polystyrène, et (e) un solvant organique ; et un film de revêtement dur, qui comprend une couche de revêtement dure qui est composée d'un film durci formé à partir de cette composition.
(JA)【課題】 優れた消泡性を有し、且つ高い耐擦傷性を発現するハードコート層の形成材料を提供すること。 【解決手段】 (a)活性エネルギー線硬化性多官能モノマー100質量部、(b)ポリ(オキシパーフルオロアルキレン)基を含む分子鎖の両末端に、ポリ(オキシアルキレン)基を介して又はポリ(オキシアルキレン)基及び1つのウレタン結合をこの順に介して、活性エネルギー線重合性基を有するパーフルオロポリエーテル0.1~10質量部、(c)活性エネルギー線によりラジカルを発生する重合開始剤1~20質量部、(d)ポリスチレン換算で測定される重量平均分子量が10,000~200,000であり、且つフッ素含有量が31質量%以上であるフルオロシリコーン化合物からなる消泡剤0.0001~0.004質量部、及び(e)有機溶媒を含む硬化性組成物、並びに該組成物より得られる硬化膜からなるハードコート層を備えるハードコートフィルム。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)