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1. (WO2018056279) COMPOSÉ, RÉSINE, COMPOSITION, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
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N° de publication :    WO/2018/056279    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/033802
Date de publication : 29.03.2018 Date de dépôt international : 20.09.2017
CIB :
C07D 493/08 (2006.01), C08G 16/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP)
Inventeurs : ECHIGO, Masatoshi; (JP)
Mandataire : INABA, Yoshiyuki; (JP).
ONUKI, Toshifumi; (JP).
NAITO, Kazuhiko; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-183068 20.09.2016 JP
Titre (EN) COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSÉ, RÉSINE, COMPOSITION, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF
(JA) 化合物、樹脂、組成物、並びにレジストパターン形成方法及びパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A compound selected from a group consisting of compounds represented by expression (1) is provided. (In expression (1), the RS's are independently a hydrogen atom, an alkyl group of 1-30 carbons optionally having a substituent, an aryl group of 6-30 carbons optionally having a substituent, an alkenyl group of 2-30 carbons optionally having a substituent, an alkoxy group of 1-30 carbons optionally having a substituent, a halogen atom, a nitro group, an amino group, a carboxylic acid group, a thiol group or a hydroxy group, with the aforementioned alkyl group, aryl group, alkenyl group and alkoxy group optionally containing an ether bond, a ketone bond or an ester bond, and at least one RS's is a hydroxy group, the RT's are independently a hydrogen atom, an alkyl group of 1-30 carbons optionally having a substituent, an aryl group of 6-30 carbons optionally having a substituent, an alkenyl group of 2-30 carbons optionally having a substituent, an alkoxy group of 1-30 carbons optionally having a substituent, a halogen atom, a nitro group, an amino group, a carboxylic acid group, a thiol group or a hydroxy group, with the aforementioned alkyl group, aryl group, alkenyl group and alkoxy group optionally including an ether bond, a ketone bond or an ester bond, and optionally including an annular structure through two RT's bonding together.)
(FR)L'invention concerne un composé choisi dans le groupe constitué par les composés représentés par l'expression (1). (Dans l'expression (1), les R S sont indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle de 1 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un groupe aryle de 6 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un groupe alcényle de 2 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un groupe alcoxy de 1 à 30 atomes de carbone ayant facultativement un substituant, un atome d'halogène, un groupe nitro, un groupe amino, un groupe acide carboxylique, un groupe thiol ou un groupe hydroxy, avec le groupe alkyle susmentionné, le groupe aryle, un groupe alcényle et un groupe alcoxy contenant éventuellement une liaison éther, une liaison cétone ou une liaison ester, et au moins un R S est un groupe hydroxy, les R T sont indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle de 1 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un groupe aryle de 6 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un groupe alcényle de 2 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un groupe alcoxy de 1 à 30 atomes de carbone ayant éventuellement un substituant, un atome d'halogène, un groupe nitro, un groupe amino, un groupe acide carboxylique, un groupe thiol ou un groupe hydroxy, avec le groupe alkyle susmentionné, le groupe aryle, le groupe alcényle et le groupe alcoxy comprenant éventuellement une liaison éther, une liaison cétone ou une liaison ester, et comprenant éventuellement une structure annulaire par l'intermédiaire de deux liaisons R T .)
(JA)本発明は、下記式(1)で表される化合物からなる群より選ばれる、化合物を提供する。 (1) (式(1)中、Rは、各々独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数2~30のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基又は水酸基であり、前記アルキル基、前記アリール基、前記アルケニル基及び前記アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ここで、Rの少なくとも1つは水酸基であり、 Rは、各々独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数2~30のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基又は水酸基であり、前記アルキル基、前記アリール基、前記アルケニル基及び前記アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ここで、2つのRが結合して環状構造を含んでいてもよい。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)