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1. (WO2018056189) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, FILM DURCISSABLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, FILTRE DE COULEUR, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGES
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N° de publication : WO/2018/056189 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/033365
Date de publication : 29.03.2018 Date de dépôt international : 15.09.2017
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/031 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
028
avec des substances accroissant la photosensibilité, p.ex. photo-initiateurs
031
Composés organiques non couverts par le groupe G03F7/02975
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
20
Filtres
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
森下 裕行 MORISHITA Hiroyuki; JP
尾田 和也 OOTA Kazuya; JP
田口 貴規 TAGUCHI Yoshinori; JP
吉井 朗子 YOSHII Akiko; JP
Mandataire :
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
Données relatives à la priorité :
2016-18540123.09.2016JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CURABLE FILM, PATTERN FORMATION METHOD, COLOR FILTER, SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, FILM DURCISSABLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, FILTRE DE COULEUR, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGES
(JA) 感光性組成物、硬化膜、パターン形成方法、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
Abrégé :
(EN) Provided is a photosensitive composition capable of forming a pattern that has excellent rectangularity and excellent resistance to solvents. Also provided are a curable film, a method for forming a pattern, a color filter, a solid-state imaging element, and an image display device. This photosensitive composition includes: a white or colorless pigment A; an alkali-soluble resin B; a polymerizable compound C having an ethylene-based unsaturated double-bond; a photopolymerization initiator D1 having an absorption coefficient of 1.0 x 103 mL/gcm or higher in methanol at a wavelength of 365 nm; and a photopolymerization initiator D2 having an absorption coefficient of 1.0 x 102 mL/gcm or less in methanol at a wavelength of 365 nm and having an absorption coefficient of 1.0 x 103 mL/gcm or higher at a wavelength of 254 nm. The mass ratio of the photopolymerization initiator D1 to the photopolymerization initiator D2 is photopolymerization initiator D1 : photopolymerization initiator D2 = 90:10 to 40:60.
(FR) L'invention concerne une composition photosensible susceptible de former un motif qui présente une excellente rectangularité et une excellente résistance aux solvants. L'invention concerne également un film durcissable, un procédé de formation d'un motif, un filtre de couleur, un élément d'imagerie à semi-conducteurs et un dispositif d'affichage d'images. Cette composition photosensible comprend : un pigment blanc ou incolore A ; une résine soluble dans les alcalis B ; un composé polymérisable C ayant une double liaison insaturée à base d'éthylène ; un initiateur de photopolymérisation D1 ayant un coefficient d'absorption supérieur ou égal à 1,0 x 103 ml/gcm dans le méthanol à une longueur d'onde de 365 nm ; et un initiateur de photopolymérisation D2 ayant un coefficient d'absorption inférieur ou égal à 1,0 x 102 ml/gcm dans du méthanol à une longueur d'onde de 365 nm et ayant un coefficient d'absorption supérieur ou égal à 1,0 x 103 ml/gcm à une longueur d'onde de 254 nm. Le rapport massique de l'initiateur de photopolymérisation D1 à l'initiateur de photopolymérisation D2 est initiateur de photopolymérisation D1 : initiateur de photopolymérisation D2 = 90:10 à 40:60.
(JA) 矩形性および耐溶剤性に優れたパターンを形成可能な感光性組成物を提供する。また、硬化膜、パターン形成方法、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供する。この感光性組成物は、白色または無色の顔料Aと、アルカリ可溶性樹脂Bと、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物Cと、メタノール中での波長365nmにおける吸光係数が1.0×10mL/gcm以上である光重合開始剤D1と、メタノール中での波長365nmにおける吸光係数が1.0×10mL/gcm以下であり、波長254nmにおける吸光係数が1.0×10mL/gcm以上である光重合開始剤D2と、を含み、光重合開始剤D1と光重合開始剤D2との質量比が、光重合開始剤D1:光重合開始剤D2=90:10~40:60である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)