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1. (WO2018055971) PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'HYDROGÈNE OU D'HÉLIUM ET APPAREIL DE PURIFICATION D'HYDROGÈNE OU D'HÉLIUM
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N° de publication : WO/2018/055971 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/030156
Date de publication : 29.03.2018 Date de dépôt international : 23.08.2017
CIB :
C01B 3/56 (2006.01) ,B01D 53/053 (2006.01) ,C01B 23/00 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.[JP/JP]; 346-1, Miyanishi, Harima-cho, Kako-gun, Hyogo 6750145, JP
Inventeurs : TANAKA Saori; JP
NAKATANI Mitsutoshi; JP
TSUCHIYA Takahiro; JP
Mandataire : YOSHIDA Minoru; JP
TANAKA Tatsuya; JP
SUZUKI Yasumitsu; JP
USUI Takashi; JP
DOI Fumiaki; JP
SUZUKI Shintaro; JP
KOBUCHI Keita; JP
Données relatives à la priorité :
2016-18667626.09.2016JP
Titre (EN) METHOD FOR PURIFYING HYDROGEN OR HELIUM, AND DEVICE FOR PURIFYING HYDROGEN OR HELIUM
(FR) PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'HYDROGÈNE OU D'HÉLIUM ET APPAREIL DE PURIFICATION D'HYDROGÈNE OU D'HÉLIUM
(JA) 水素またはヘリウムの精製方法、および水素またはヘリウムの精製装置
Abrégé : front page image
(EN) This method that purifies hydrogen or helium from a source gas mainly composed of hydrogen or helium and including volatile aromatic compounds as impurities by using a PSA technique performed using adsorption towers (10A to 10C) filled with absorbents repeats a cycle that includes an adsorption step, a depressurization step, a desorption step, and a cleaning step in the adsorption towers (10A to 10C). The adsorption towers (10A to 10C) are divided into a first region, a second region, and a third region in order from the upstream side to the downstream side in a flow direction of the source gas in the adsorption towers. The first region is filled with a silica gel-based first adsorbent 131 having a fill ratio of 15 to 75 vol% relative to the total fill capacity of adsorbents. The second region is filled with a zeolite-based second adsorbent 132 having a fill ratio of 15 to 75 vol%. The third region is filled with an activated carbon-based third adsorbent 133 having a fill ratio of 5 to 30 vol%.
(FR) Ce procédé, qui purifie l'hydrogène ou l'hélium à partir d'un gaz source principalement composé d'hydrogène ou d'hélium et comprenant des composés aromatiques volatils en tant qu'impuretés en utilisant un procédé PSA effectuée à l'aide de tours d'adsorption (10A à 10C) remplie d'absorbants, répète un cycle qui comprend une étape d'adsorption, une étape de dépressurisation, une étape de désorption et une étape de nettoyage dans les tours d'adsorption (10A à 10C). Les colonnes d'adsorption sont divisées en une première zone, une deuxième zone et une troisième zone, dans l'ordre, du côté amont au côté aval dans la direction d'écoulement du gaz d'alimentation dans les colonnes d'adsorption. La première région est remplie d'un premier adsorbant à base de gel de silice 131 ayant un rapport de remplissage de 15 à 75 % en volume par rapport à la capacité de remplissage totale d'adsorbants. La seconde région est remplie d'un second adsorbant à base de zéolite 132 ayant un rapport de remplissage de 15 à 75 % en volume. La troisième région est remplie d'un troisième adsorbant à base de charbon actif ayant un rapport de remplissage de 5 à 30 % en volume.
(JA) 不純物として揮発性芳香族化合物を含み、且つ主成分として水素またはヘリウムを含む原料ガスから、吸着剤が充填された吸着塔(10A~10C)を用いて行うPSA法により、水素またはヘリウムを精製する方法は、吸着塔(10A~10C)の各々について、吸着工程、減圧工程、脱着工程、および洗浄工程を含むサイクルを繰り返し行う。各吸着塔(10A~10C)は、吸着塔における原料ガスの流れ方向において上流側から下流側に向けて順に第1領域、第2領域および第3領域に区分されている。第1領域には、吸着剤の充填容量全体に対し、充填比率が15~75vol%のシリカゲル系の第1吸着剤131が充填されている。第2領域には、充填比率が15~75vol%のゼオライト系の第2吸着剤132が充填されている。第3領域には、充填比率が5~30vol%の活性炭系の第3吸着剤133が充填されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)