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1. (WO2018055311) SUBSTRAT REVETU D'UN REVETEMENT BAS-EMISSIF
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N° de publication : WO/2018/055311 N° de la demande internationale : PCT/FR2017/052570
Date de publication : 29.03.2018 Date de dépôt international : 25.09.2017
CIB :
C03C 17/36 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
03
VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
C
COMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, SUBSTANCES MINÉRALES OU SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
17
Traitement de surface du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement
34
avec au moins deux revêtements ayant des compositions différentes
36
un revêtement au moins étant un métal
Déposants : SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE[FR/FR]; 18 avenue d'Alsace 92400 COURBEVOIE, FR
Inventeurs : GUIMARD, Denis; FR
SKOLSKI, Johann; FR
Mandataire : SAINT-GOBAIN RECHERCHE; Département Propriété Industrielle 39 quai Lucien Lefranc 93300 AUBERVILLIERS, FR
Données relatives à la priorité :
165902926.09.2016FR
Titre (EN) SUBSTRATE COATED WITH A LOW-EMISSIVITY COATING
(FR) SUBSTRAT REVETU D'UN REVETEMENT BAS-EMISSIF
Abrégé :
(EN) The invention relates to a material comprising a substrate coated on at least one face with a coating including a first dielectric layer, a wetting layer, a silver layer, and a second dielectric layer, characterised in that at least one of said first and second dielectric layers is an oxide-based dielectric layer and an oxygen donor layer is disposed near the oxide-based dielectric layer; as well as to a method for obtaining such a material, said method comprising a step involving the laser annealing of the coating.
(FR) L'invention porte sur un matériau comprenant un substrat revêtu sur au moins une face d'un revêtement comprenant une première couche diélectrique, une couche de mouillage, une couche d'argent et une deuxième couche diélectrique, caractérisé en ce qu'au moins une desdites premières et deuxièmes couches diélectriques est une couche diélectrique à base d'oxyde et une couche donneuse d'oxygène est disposée au voisinage de la couche diélectrique à base d'oxyde; ainsi que sur un procédé d'obtention d'un tel matériau, ledit procédé comprenant une étape de recuit laser dudit revêtement.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)