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1. (WO2018054799) DISPOSITIF ACTIONNEUR, PROCÉDÉ D'ACTIONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication :    WO/2018/054799    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/073388
Date de publication : 29.03.2018 Date de dépôt international : 18.09.2017
CIB :
C09K 19/04 (2006.01), C09K 19/20 (2006.01), C09K 19/24 (2006.01), C09K 19/34 (2006.01), C09K 19/38 (2006.01), C09K 19/54 (2006.01), B32B 27/08 (2006.01), B29C 70/00 (2006.01), B81B 3/00 (2006.01), F03G 7/06 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS N.V. [NL/NL]; High Tech Campus 5 5656 AE Eindhoven (NL)
Inventeurs : LUB, Johan; (NL).
WILLARD, Nicolaas, Petrus; (NL).
HENDRIKS, Cornelis, Petrus; (NL).
VAN DEN AKER, Karel, Johannes, Adrianus; (NL)
Mandataire : VAN VELZEN, Maaike, Mathilde; (NL).
DE HAAN, Poul, Erik; (NL)
Données relatives à la priorité :
16189915.8 21.09.2016 EP
17158318.0 28.02.2017 EP
Titre (EN) ACTUATOR DEVICE, ACTUATION METHOD AND MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF ACTIONNEUR, PROCÉDÉ D'ACTIONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)An actuator device comprises a stack formed from a plurality of photoresponsive layers, which deform in response to light, which are partitioned by respective deformable non- photoresponsive layers. The deformable non-photoresponsive layers guide light between and to the photoresponsive layers, and can follow the deformation of the photoresponsive layers.
(FR)Un dispositif actionneur comprend un empilement formé à partir d'une pluralité de couches photosensibles, qui se déforment en réponse à la lumière, qui sont séparées par des couches non photosensibles déformables respectives. Les couches déformables non photosensibles guident la lumière entre et vers les couches photosensibles, et peuvent suivre la déformation des couches photosensibles.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)