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1. (WO2018053278) FORMATION DE MOTIFS EN MICROSTRUCTURES EN OR NANOPOREUX
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N° de publication :    WO/2018/053278    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/051801
Date de publication : 22.03.2018 Date de dépôt international : 15.09.2017
CIB :
C22C 1/08 (2006.01), B82Y 40/00 (2011.01), C22C 5/06 (2006.01)
Déposants : SHIH, Wei-Chuan [US/US]; (US).
ZHAO, Fusheng [CN/US]; (US).
LI, Jingting [CN/US]; (US)
Inventeurs : SHIH, Wei-Chuan; (US).
ZHAO, Fusheng; (US).
LI, Jingting; (US)
Mandataire : RAMEY III, William P.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/394,842 15.09.2016 US
Titre (EN) PATTERNING OF NANOPOROUS GOLD MICROSTRUCTURES
(FR) FORMATION DE MOTIFS EN MICROSTRUCTURES EN OR NANOPOREUX
Abrégé : front page image
(EN)A nanoporous metal can be formed by projecting laser patterns using a spatial light modulator (SLM) onto a gold/silver alloy film immersed in diluted nitric acid solutions. Heat accumulation induced by the photothermal effect enables localized dealloying in dilute nitric acid. NPG micropatterns can be formed at the irradiated spots while the surrounding alloy remains intact.
(FR)Selon l'invention, un métal nanoporeux peut être formé par projection de motifs laser à l'aide d'un modulateur spatial de lumière (SLM) sur un film d'alliage or/argent immergé dans des solutions diluées d'acide nitrique. L'accumulation de chaleur induite par l'effet photothermique permet un désalliage localisé dans l'acide nitrique dilué. Des micromotifs d'or nanoporeux peuvent être formés au niveau des points irradiés tandis que l'alliage environnant reste intact.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)