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1. (WO2018053199) INSPECTION DE GALETTE SIMULTANÉE MULTI-DIRECTIONNELLE AU LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/053199 N° de la demande internationale : PCT/US2017/051659
Date de publication : 22.03.2018 Date de dépôt international : 14.09.2017
CIB :
G01N 21/95 (2006.01) ,G01N 21/88 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION[US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs : LIU, Sheng; US
TSAI, Bin-Ming, Benjamin; US
ZHAO, Guoheng; US
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M., N; US
Données relatives à la priorité :
15/697,38606.09.2017US
62/395,08615.09.2016US
Titre (EN) SIMULTANEOUS MULTI-DIRECTIONAL LASER WAFER INSPECTION
(FR) INSPECTION DE GALETTE SIMULTANÉE MULTI-DIRECTIONNELLE AU LASER
Abrégé : front page image
(EN) Disclosed is apparatus for inspecting a sample. The apparatus includes illumination optics for simultaneously directing a plurality of incident beams at a plurality of azimuth angles towards a sample and collection optics for directing a plurality of field portions of output light from two or more of the plurality of angles towards two or more corresponding sensors. The two or more sensors are arranged for receiving the field portions corresponding to two or more angles and generating two or more corresponding images. The apparatus further comprises a processor for analyzing the two or more images to detect defects on the sample.
(FR) L'invention concerne un appareil pour inspecter un échantillon. L'appareil comprend une optique d'éclairage destinée à diriger simultanément une pluralité de faisceaux incidents à une pluralité d'angles d'azimut vers un échantillon, et une optique de collecte destinée à diriger une pluralité de portions de champ de lumière de sortie provenant d'au moins deux angles parmi la pluralité d'angles vers au moins deux capteurs correspondants. Les au moins deux capteurs sont disposés de manière à recevoir les portions de champ correspondant à au moins deux angles et générer au moins deux images correspondantes. L'appareil comprend en outre un processeur servant à analyser les au moins deux images en vue de détecter des défauts sur l'échantillon.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)