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1. (WO2018052236) APPAREIL DE DÉPÔT
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N° de publication :    WO/2018/052236    N° de la demande internationale :    PCT/KR2017/010016
Date de publication : 22.03.2018 Date de dépôt international : 13.09.2017
CIB :
C23C 14/56 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/54 (2006.01), H01L 21/203 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Déposants : ALPHA PLUS CO., LTD. [KR/KR]; 200, Asanvalleydong-ro, Dunpo-myeon Asan-si Chungcheongnam-do 31409 (KR)
Inventeurs : MOON, Il Kwon; (KR).
HWANG, Do Weon; (KR)
Mandataire : MI PATENT AND LAW FIRM; 5F., 45 Teheran-ro 4-gil Gangnam-gu Seoul 06240 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2016-0118317 13.09.2016 KR
Titre (EN) DEPOSITION APPARATUS
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT
(KO) 증착 장치
Abrégé : front page image
(EN)The technical objective of the present invention is to provide a deposition apparatus capable of protecting a surface of a substrate from a contaminant attached to a deposition nozzle. To this end, a deposition apparatus of the present invention, which is a deposition apparatus for depositing one or more thin film-forming materials on a substrate, comprises: a first linear evaporation source having a first conductance tube in which a plurality of deposition nozzles for spraying a first thin film-forming material onto the substrate are arranged long in a first direction; a fixed shielding member comprising a passage region which is provided between the first conductance tube and the substrate to pass a portion of the sprayed first thin film-forming material onto the substrate, and a shielding region which blocks the remaining portion of the first thin film-forming material; and a first contamination preventing member, provided in the fixed shielding member, for preventing a contaminant attached to at least one deposition nozzle from among the plurality of deposition nozzles from moving to the substrate.
(FR)L'objet technique de la présente invention est de fournir un appareil de dépôt apte à protéger une surface d'un substrat d'un contaminant fixé à une buse de dépôt. À cette fin, un appareil de dépôt de la présente invention, qui est un appareil de dépôt permettant de déposer un ou plusieurs matériaux filmogènes de couches minces sur un substrat, comprend : une première source d'évaporation linéaire comportant un premier tube de conductance dans lequel plusieurs buses de dépôt, servant à pulvériser un premier matériau filmogène de couches minces sur le substrat, sont agencées le long d'une première direction ; un élément de protection fixe comprenant une région de passage qui est prévue entre le premier tube de conductance et le substrat pour faire passer une partie du premier matériau filmogène de couches minces pulvérisé sur le substrat, et une région de protection qui bloque la partie restante du premier matériau filmogène de couches minces ; et un premier élément de prévention de contamination, disposé dans l'élément de protection fixe, servant à empêcher un contaminant fixé à au moins une buse de dépôt parmi la pluralité de buses de dépôt de se déplacer vers le substrat.
(KO)본 발명은 증착용 노즐에 달라붙은 오염 물질로부터 기판의 표면을 보호할 수 있는 증착 장치를 제공하는 것이 그 기술적 과제이다. 이를 위해, 본 발명의 증착 장치는, 기판에 하나 이상의 박막 형성용 물질을 증착시키기 위한 증착 장치로서, 상기 기판으로 제1 박막 형성용 물질을 분사시키기 위한 복수의 증착용 노즐이 제1 방향으로 길게 배열된 제1 전도관을 가지는 제1 선형 증발원; 상기 제1 전도관과 상기 기판 사이에 구비되며 상기 분사되는 제1 박막 형성용 물질의 일부를 상기 기판으로 통과시키는 통과 영역부와 상기 제1 박막 형성용 물질의 나머지를 차단시키는 가림 영역부를 포함하는 고정형 가림 부재; 및 상기 고정형 가림 부재에 구비되어 상기 복수의 증착용 노즐 중 적어도 하나의 증착용 노즐에 묻은 오염 물질이 상기 기판으로 이동되는 것을 막는 제1 오염 방지 부재를 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)