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1. (WO2018051792) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ CONTENANT UN MOTIF POLYSILOXANE, ET COMPOSITION POLYMÈRE
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N° de publication : WO/2018/051792 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/031204
Date de publication : 22.03.2018 Date de dépôt international : 30.08.2017
CIB :
C08G 77/06 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
77
Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone
04
Polysiloxanes
06
Procédés de préparation
Déposants : NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY[JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008921, JP
Inventeurs : FUCHISE, Keita; JP
IGARASHI, Masayasu; JP
SHIMADA, Shigeru; JP
SATO, Kazuhiko; JP
Mandataire : HIRAKAWA, Akira; JP
SANUKI, Shinichi; JP
ISHIMARU, Ryohei; JP
Données relatives à la priorité :
2016-17961814.09.2016JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING POLYSILOXANE-STRUCTURE-CONTAINING COMPOUND, AND POLYMER COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ CONTENANT UN MOTIF POLYSILOXANE, ET COMPOSITION POLYMÈRE
(JA) ポリシロキサン構造含有化合物の製造方法及び高分子組成物
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide a process for producing a polysiloxane-structure-containing compound in which the polysiloxane structure has clear "repeating structures" and "terminal structures" and which can have a reduced molecular-weight dispersity ratio. A cyclic siloxane represented by formula (A) is polymerized by ring-opening polymerization using an organic base as a catalyst and using water or a specific compound as an initiator. Thus, a polysiloxane structure which has clear "repeating structures" and "terminal structures" and has a reduced molecular-weight dispersity ratio can be formed.
(FR) L'objectif de la présente invention est de fournir un procédé de production d'un composé contenant un motif polysiloxane dans lequel le motif polysiloxane comporte des « motifs répétés » et des « motifs terminaux » précis et qui peut présenter un rapport de dispersion des poids moléculaires réduit. Un siloxane cyclique représenté par la formule (A) est polymérisé par polymérisation par ouverture de cycle en utilisant une base organique en tant que catalyseur et de l'eau ou un composé spécifique en tant qu'initiateur. Ainsi, un motif polysiloxane comportant des « motifs répétés » et des « motifs terminaux » précis et qui présente un rapport de dispersion des poids moléculaires réduit peut être formé.
(JA) ポリシロキサン構造における「繰り返し構造」や「末端構造」が明確で、かつ分子量分散度を小さく抑えることができるポリシロキサン構造含有化合物の製造方法を提供することを目的とする。有機塩基を触媒とし、水や特定の化合物を開始剤として、下記式(A)で表される環状シロキサンを開環重合させることにより、「繰り返し構造」や「末端構造」が明確で、かつ分子量分散度を小さく抑えたポリシロキサン構造が形成できる。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)