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1. (WO2018050457) ENCRES POUR JET D'ENCRE RÉSISTANT À LA GRAVURE PERMETTANT LA FABRICATION DE CARTES DE CIRCUITS IMPRIMÉS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/050457    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/071968
Date de publication : 22.03.2018 Date de dépôt international : 01.09.2017
CIB :
C09D 11/101 (2014.01), C09D 11/38 (2014.01), H01K 1/00 (2006.01), H01K 3/00 (2006.01)
Déposants : AGFA-GEVAERT N.V. [BE/BE]; IP Department 3622 Septestraat 27 2640 Mortsel (BE)
Inventeurs : LOCCUFIER, Johan; (BE).
TORFS, Rita; (BE)
Mandataire : VIAENE, Kris; (BE)
Données relatives à la priorité :
16188702.1 14.09.2016 EP
Titre (EN) ETCH-RESISTANT INKJET INKS FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARDS
(FR) ENCRES POUR JET D'ENCRE RÉSISTANT À LA GRAVURE PERMETTANT LA FABRICATION DE CARTES DE CIRCUITS IMPRIMÉS
Abrégé : front page image
(EN)A radiation curable inkjet ink including an adhesion promoter comprising: (1) at least one a free radical polymerizable group selected from the group consisting of an acrylate, a methacrylate, an acryl amide and a methacryl amide; (2) at least one aliphatic tertiary amine; and (3) at least one carboxylic acid or salt thereof with the proviso that the carboxylic acid is linked to an aliphatic tertiary amine via a divalent linking group selected from the group consisting of an optionally substituted methylene group and an optionally substituted ethylene group.
(FR)La présente invention concerne une encre pour jet d'encre durcissable par rayonnement comprenant un promoteur d'adhérence comprenant : (1) au moins un groupe polymérisable par radicaux libres choisi dans le groupe constitué par un acrylate, un méthacrylate, un acryl amide et un méthacryl amide ; (2) au moins une amine tertiaire aliphatique ; et (3) au moins un acide carboxylique ou un sel de ce dernier à condition que l'acide carboxylique soit lié à une amine tertiaire aliphatique par l'intermédiaire d'un groupe de liaison divalent choisi dans le groupe constitué par un groupe méthylène éventuellement substitué et un groupe éthylène éventuellement substitué.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)