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1. (WO2018050443) SYSTÈME DE POSITIONNEMENT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE

Pub. No.:    WO/2018/050443    International Application No.:    PCT/EP2017/071870
Publication Date: Fri Mar 23 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Fri Sep 01 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/20
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
ASML HOLDING N.V.
Inventors: BUSTRAAN, Krijn, Frederik
HUANG, Yang-Shan
DE GROOT, Antonius, Franciscus, Johannes
KIM, Minkyu
SIMONS, Jasper, Anne, Frido, Marikus
RUIJL, Theo, Anjes, Maria
LAMERS, Ronald, Josephus, Maria
Title: SYSTÈME DE POSITIONNEMENT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abstract:
Cette invention concerne un système de positionnement pour positionner un objet. Le système de positionnement comprend un étage, une masse d'équilibrage et un système d'actionnement. L'étage est destiné à retenir l'objet. Le système d'actionnement est conçu pour entraîner l'étage dans une première direction tout en entraînant la masse d'équilibrage dans une seconde direction opposée à la première direction. L'étage est mobile dans la première direction dans une plage de mouvement. Lorsque l'étage se déplace dans la première direction et se trouve à une extrémité de la plage de mouvement, le système de positionnement est agencé pour amener en collision frontale l'étage dans la masse d'équilibrage.