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1. (WO2018050432) OPTIMISATION D'UN APPAREIL DE LITHOGRAPHIE OU D'UN PROCESSUS DE FORMATION DE MOTIFS SUR LA BASE D'UNE ABERRATION SÉLECTIONNÉE
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N° de publication :    WO/2018/050432    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/071686
Date de publication : 22.03.2018 Date de dépôt international : 30.08.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : HANSEN, Steven, George; (US).
VAN ADRICHEM, Paulus, Jacobus, Maria; (NL).
LYAKHOVA, Kateryna, Stanislavovna; (NL)
Mandataire : PETERS, John; (NL)
Données relatives à la priorité :
62/394,085 13.09.2016 US
Titre (EN) OPTIMIZATION OF A LITHOGRAPHY APPARATUS OR PATTERNING PROCESS BASED ON SELECTED ABERRATION
(FR) OPTIMISATION D'UN APPAREIL DE LITHOGRAPHIE OU D'UN PROCESSUS DE FORMATION DE MOTIFS SUR LA BASE D'UNE ABERRATION SÉLECTIONNÉE
Abrégé : front page image
(EN)A method including obtaining a selected component of optical aberration of or for a lithography apparatus, under a processing condition; computing, by a hardware computer system, an approximate of a cost function, based on the selected component; and producing an adjustment of the lithography apparatus or a patterning process that uses the lithography apparatus, based on the approximate of the cost function.
(FR)L'invention concerne un procédé comprenant les étapes consistant à : obtenir un composant sélectionné d'aberration optique d'un appareil de lithographie ou destiné à un appareil de lithographie, sous condition de traitement ; calculer, à l'aide d'un système informatique matériel, une approximation d'une fonction de coût, sur la base du composant sélectionné ; et produire un réglage de l'appareil de lithographie ou d'un processus de formation de motifs qui utilise l'appareil de lithographie, sur la base de l'approximation de la fonction de coût.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)