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1. (WO2018050270) APPAREIL DE REVÊTEMENT SOUS VIDE
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N° de publication :    WO/2018/050270    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/001051
Date de publication : 22.03.2018 Date de dépôt international : 06.09.2017
CIB :
C23C 14/50 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01)
Déposants : SATISLOH AG [CH/CH]; Neuhofstrasse 12 6340 Baar (CH)
Inventeurs : MORENI, Franco; (IT).
COREA, Antonio; (IT).
VISCOMI, Giuseppe; (IT)
Mandataire : OPPERMANN, Mark; OPPERMANN & OPPERMANN Am Wiesengrund 35 63075 Offenbach (DE)
Données relatives à la priorité :
16 002 019.4 16.09.2016 EP
Titre (EN) VACUUM COATING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE REVÊTEMENT SOUS VIDE
Abrégé : front page image
(EN)A box coating apparatus (10) for vacuum coating of substrates comprises a vacuum chamber (12) containing an evaporation source (14) and a substrate holder (16) formed as a dome vis-a-vis to the evaporation source and rotatable about an axis (R). A masking arrangement (20) is located in between for partially shadowing the substrates on the substrate holder relative to the evaporation source. The masking arrangement comprises a fixed masking portion (22) stationary in the vacuum chamber, and a plurality of gradient sector portions (24, 26, 28) carrying gradient shields assigned to the substrates on the substrate holder, for forming a gradient mask. The gradient sector portions can be rotated about said axis between a gradient mask open position where they are stored behind the fixed masking portion, and a gradient mask closed position where they are spread like a fan between the evaporation source and the substrate holder.
(FR)L’invention concerne un appareil de revêtement de boîte (10) pour le revêtement sous vide de substrats comprenant une chambre à vide (12) renfermant une source d'évaporation (14) et un support de substrat (16) se présentant sous forme de dôme vis-à-vis de la source d'évaporation et pouvant tourner autour d'un axe (R). Un agencement de masquage (20) est situé entre ces deux éléments pour cacher en partie les substrats sur le support de substrat de la source d'évaporation. L'agencement de masquage comprend une partie de masquage fixe (22) immobile dans la chambre à vide, et une pluralité de parties secteur de gradient (24, 26, 28) portant des écrans de gradient affectés aux substrats sur le support de substrat, pour former un masque de gradient. Les parties secteur de gradient peuvent être tournées autour dudit axe entre une position ouverte de masque de gradient où elles sont stockées derrière la partie de masquage fixe, et une position fermée de masque de gradient où elles s’étendent à la manière d’un éventail entre la source d'évaporation et le support de substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)