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1. (WO2018050245) SUBSTRAT IMPRIMÉ RECOUVERT
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N° de publication :    WO/2018/050245    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/072022
Date de publication : 22.03.2018 Date de dépôt international : 16.09.2016
CIB :
G03G 8/00 (2006.01), G03G 9/12 (2006.01)
Déposants : HP INDIGO B.V. [NL/NL]; Startbaan 16 1187 XR Amstelveen (NL)
Inventeurs : SKVIRSKY, Daniel; (IL).
TZOMIK, Inna; (IL).
KOGAN, Faina; (IL).
STOLOV, Alexander; (IL)
Mandataire : ADDISON, Joanne; (GB)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) OVERCOATED PRINTED SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT IMPRIMÉ RECOUVERT
Abrégé : front page image
(EN)Described herein is a method of providing an overcoated printed substrate. The method may comprise: providing a printed substrate comprising a primer layer disposed on a print substrate and a liquid electrostatically printed layer disposed on the primer layer; and applying a UV curable overcoat composition to the printed layer of the printed substrate, wherein the UV curable overcoat composition comprises a UV curable resin and inorganic nanoparticles dispersed therein.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fourniture d'un substrat imprimé recouvert. Le procédé peut consister à fournir un substrat imprimé comprenant une couche primaire disposée sur un substrat d'impression et une couche imprimée électrostatiquement liquide disposée sur la couche primaire ; et à appliquer une composition de revêtement polymérisable aux UV à la couche imprimée du substrat imprimé, la composition de revêtement polymérisable aux UV comprenant une résine polymérisable aux UV et des nanoparticules non organiques dispersées en son sein.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)