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1. (WO2018050069) SYSTÈME DE POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE
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N° de publication :    WO/2018/050069    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/101583
Date de publication : 22.03.2018 Date de dépôt international : 13.09.2017
CIB :
B24B 37/10 (2012.01), H01L 21/67 (2006.01)
Déposants : TSINGHUA UNIVERSITY [CN/CN]; Qinghuayuan, Haidian District Beijing 100084 (CN).
HWATSING TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; #8 Building, No. 9 Juxing Rd., Haihe Sci-tech Park, Jinnan District Tianjin 300350 (CN)
Inventeurs : XU, Zhenjie; (CN).
CHEN, Xiangyu; (CN).
WANG, Jian; (CN).
PANG, Lingling; (CN).
SHEN, Pan; (CN).
WANG, Guodong; (CN).
PEI, Zhaohui; (CN).
CHEN, Yingsong; (CN).
ZHAO, Dewen; (CN).
WANG, Tongqing; (CN).
LI, Kun; (CN).
LU, Xinchun; (CN)
Mandataire : TSINGYIHUA INTELLECTUAL PROPERTY LLC; Room 301 Trade Building, Zhaolanyuan, Tsinghua University, Qinghuayuan, Haidian District Beijing 100084 (CN)
Données relatives à la priorité :
201621056481.9 14.09.2016 CN
Titre (EN) CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE
(ZH) 化学机械抛光系统
Abrégé : front page image
(EN)A chemical mechanical polishing system comprises: a front-end module (101), used to store and/or test a wafer; a plurality of polishing units (102, 103, 104, 105), disposed side by side and at least one thereof being adjacent to the front-end module; polishing robot arms (107, 109), disposed between the plurality of polishing units for transferring the wafer; post-cleaning units (108, 110), connected to both the polishing units and the front-end module and disposed such that the wafer is vertically handled during a cleaning process; and an intermediate robot arm (408), used to transfer the wafer sequentially between the polishing units and the post-cleaning units. The chemical mechanical polishing system has a high production efficiency, flexible process flow, better cleaning effect and compact structure due to the small volume of the post-cleaning units.
(FR)La présente invention concerne un système de polissage mécano-chimique comprenant : un module d'extrémité avant (101), utilisé pour stocker et/ou tester une tranche ; une pluralité d'unités de polissage (102, 103, 104, 105), disposées côte à côte et dont au moins l'une est adjacente au module d'extrémité avant ; des bras de robot de polissage (107, 109), disposés entre la pluralité d'unités de polissage pour transférer la tranche ; des unités de post-nettoyage (108, 110), raccordés à la fois aux unités de polissage et au module d'extrémité avant et disposés de telle sorte que la tranche est manipulée verticalement pendant un processus de nettoyage ; et un bras de robot intermédiaire (408), utilisé pour transférer la tranche de manière séquentielle entre les unités de polissage et les unités de post-nettoyage. Le système de polissage mécano-chimique présente un rendement de production élevé, un écoulement de traitement flexible, un meilleur effet de nettoyage et une structure compacte du fait du petit volume des unités de post-nettoyage.
(ZH)一种化学机械抛光系统,包括:前端模块(101),所述前端模块用于存储和/或检测晶圆;多个抛光单元(102,103,104,105),多个所述抛光单元并排设置,且至少一个邻近所述前端模块;抛光机械手(107,109),所述抛光机械手设在多个所述抛光单元之间用以传递晶圆;后清洗单元(108,110),所述后清洗单元与所述抛光单元和所述前端模块均相连,且设置为清洗时晶圆纵置;中转机械手(408),所述中转机械手用于将晶圆在所述抛光单元与所述后清洗单元之间顺次传递。化学机械抛光系统生产效率高,工艺流程更加灵活,清洗效果更好,且后清洗单元的体积小,结构紧凑。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)