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1. (WO2018048005) MODULE DE PROTECTION DE MASQUE, PELLICULE COMPRENANT CELUI-CI, ET DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE COMPRENANT CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/048005    N° de la demande internationale :    PCT/KR2016/010478
Date de publication : 15.03.2018 Date de dépôt international : 20.09.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 1/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : IUCF-HYU(INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY) [KR/KR]; 222, Wangsimni-ro Seongdong-gu Seoul 04763 (KR)
Inventeurs : AHN, Jinho; (KR).
KIM, Junghwan; (KR).
HONG, Seongchul; (KR)
Mandataire : CHOI, Naeyoon; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2016-0117214 12.09.2016 KR
Titre (EN) MASK PROTECTING MODULE, PELLICLE COMPRISING SAME, AND LITHOGRAPHY DEVICE COMPRISING SAME
(FR) MODULE DE PROTECTION DE MASQUE, PELLICULE COMPRENANT CELUI-CI, ET DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE COMPRENANT CELUI-CI
(KO) 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치
Abrégé : front page image
(EN)A mask protecting module is provided. The mask protecting module comprise a frame and a membrane supported by the frame, and the membrane may comprise areas that are different from each other in terms of at least one selected from optical transmittance, heat transfer rate, and strength.
(FR)L'invention concerne un module de protection de masque. Le module de protection de masque comprend un cadre et une membrane supportée par le cadre, et la membrane peut comprendre des zones qui sont différentes les unes des autres en termes d'au moins un paramètre sélectionné parmi la transmission optique, le coefficient de transmission de chaleur et la résistance mécanique.
(KO)마스크 보호 모듈이 제공된다. 상기 마스크 보호 모듈은, 프레임(frame), 상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인(membrane)을 포함하되, 상기 멤브레인은, 광의 투과도, 열 전달율, 또는 강도 중에서 적어도 어느 하나가 다른 영역들을 포함할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)