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1. (WO2018047984) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE FABRICATION DE PUCES UNIQUES À L'AIDE D'UN SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE À PETITS FAISCEAUX DE PARTICULES CHARGÉES

Pub. No.:    WO/2018/047984    International Application No.:    PCT/JP2017/033370
Publication Date: Fri Mar 16 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Sep 09 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/20
Applicants: MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.
Inventors: VAN KERVINCK, Marcel Nicolaas Jacobus
KUIPER, Vincent Sylvester
Title: PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE FABRICATION DE PUCES UNIQUES À L'AIDE D'UN SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE À PETITS FAISCEAUX DE PARTICULES CHARGÉES
Abstract:
L'invention concerne un procédé de création de dispositifs électroniques tels que des puces semi-conductrices à l'aide d'un système d'exposition lithographique sans masque tel qu'un système de lithographie à petits faisceaux de particules chargées (301A-301D). Le système d'exposition lithographique sans masque comprend un sous-système de lithographie (316) comprenant un dispositif d'écriture de motif sans masque tel qu'une machine de lithographie à petits faisceaux de particules chargées (1) ou une machine à faisceau électronique. Le procédé consiste à introduire des données de conception de puce unique (430) ou des informations associées à ces dernières dans des données de motif comprenant des données de conception de puce commune avant la diffusion en continu des données de motif dans le dispositif d'écriture de motif sans masque.