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1. (WO2018047925) MEMBRANE ÉLECTROLYTIQUE POLYMÈRE SOLIDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication :    WO/2018/047925    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/032367
Date de publication : 15.03.2018 Date de dépôt international : 07.09.2017
CIB :
H01B 1/06 (2006.01), C08J 5/22 (2006.01), C25B 13/08 (2006.01), H01B 1/12 (2006.01), H01M 8/0239 (2016.01), H01M 8/1039 (2016.01), H01M 8/18 (2006.01)
Déposants : ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-105, Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1018101 (JP)
Inventeurs : INOUE, Yuichi; (JP).
ISHII, Takumi; (JP)
Mandataire : INABA, Yoshiyuki; (JP).
ONUKI, Toshifumi; (JP).
NAITO, Kazuhiko; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-175772 08.09.2016 JP
Titre (EN) SOLID POLYMER ELECTROLYTE MEMBRANE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) MEMBRANE ÉLECTROLYTIQUE POLYMÈRE SOLIDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 固体高分子電解質膜及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A solid polymer electrolyte membrane of the present invention has a cluster diameter of 2.96-4.00 nm, and a conversion piercing strength of 300 gf/50 µm or greater. The solid polymer electrolyte membrane of the present invention has low electrical resistance, and excellent mechanical strength.
(FR)La présente invention concerne une membrane électrolytique polymère solide ayant un diamètre de grappe de 2,96 à 4,00 nm, et une résistance de perçage de conversion de 300 gf/50 µm ou plus. La membrane électrolytique polymère solide de la présente invention présente une faible résistance électrique et une excellente résistance mécanique.
(JA)本発明に係る固体高分子電解質膜は、クラスター径が2.96~4.00nmであり、かつ、換算突き刺し強度が300gf/50μm以上である。本発明に係る固体高分子電解質膜は、電気抵抗が低く、かつ機械的強度に優れる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)