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1. (WO2018047729) DISPOSITIF DE GRADATION

Pub. No.:    WO/2018/047729    International Application No.:    PCT/JP2017/031531
Publication Date: Fri Mar 16 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Sep 02 01:59:59 CEST 2017
IPC: G02F 1/13
G02F 1/1334
G02F 1/1343
Applicants: KITAGAWA INDUSTRIES CO., LTD.
北川工業株式会社
Inventors: KAWAGUCHI Yasuhiro
川口 康弘
ASAKAWA Kazuaki
朝川 一聡
FURUTA Ken
古田 健
Title: DISPOSITIF DE GRADATION
Abstract:
La solution selon l'invention porte sur un dispositif de gradation (10) qui est pourvu d'une couche de gradation (11) et d'une paire de substrats d'électrode (12, 12) pour prendre en sandwich la couche de gradation (11). Les substrats d'électrode (12) ont une couche de support (13) et une couche d'électrode (14) formée sur la couche de support (13) de façon à faire face à la couche de gradation (11). La couche d'électrode (14) est caractérisée en ce qu'elle comprend au moins une couche de film mince à base de métal (14a) et une paire de couches d'oxyde métallique (14b, 14b) pour prendre en sandwich la couche de film mince à base de métal (14a).