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1. (WO2018047573) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT DE MASQUAGE RÉSISTANT À LA CHALEUR ET PROCÉDÉ DE PULVÉRISATION THERMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/047573    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/028943
Date de publication : 15.03.2018 Date de dépôt international : 09.08.2017
CIB :
C09D 183/06 (2006.01), B05D 1/10 (2006.01), B05D 1/32 (2006.01), B05D 3/02 (2006.01), C09D 5/00 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C23C 4/02 (2006.01)
Déposants : KOGANEI CORPORATION [JP/JP]; 11-28, Midori-cho 3-chome, Koganei-shi, Tokyo 1848533 (JP).
TOKYO THERMOCHEMICAL IND. CO., LTD. [JP/JP]; 2605, Matoba, Kawagoe-shi, Saitama 3501101 (JP)
Inventeurs : FUNAYAMA, Ryuju; (JP).
ASAI, Tomoaki; (JP).
IMAEDA, Masatoshi; (JP).
MINEMURA, Masaki; (JP)
Mandataire : TSUTSUI & ASSOCIATES; 3F, Shinjuku Gyoen Bldg., 3-10, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-177954 12.09.2016 JP
Titre (EN) HEAT-RESISTANT MASKING COATING MATERIAL AND THERMAL SPRAYING METHOD
(FR) MATÉRIAU DE REVÊTEMENT DE MASQUAGE RÉSISTANT À LA CHALEUR ET PROCÉDÉ DE PULVÉRISATION THERMIQUE
(JA) マスキング耐熱塗料および溶射方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a heat-resistant masking coating material, which forms a coating film that retains heat resistance and adhesiveness during work and is peelable after work. This heat-resistant masking coating material is a coating material where a silicone alkoxy oligomer-2, which is an intermediate oligomer (for instance, 10-mer to 20-mer) having a low ratio of crosslinked substitution groups, is added to a silicone alkoxy oligomer-1, which is a low oligomer (for instance, a tetramer) having a high ratio of crosslinked substitution groups. Such a heat-resistant masking coating material is used in a thermal spraying step, for instance. Specifically, a masking material is formed in a non-thermal-spray region using the heat-resistant masking coating material, a sprayed film is formed in a thermal spray region, and the masking material is removed. By means of this heat-resistant masking coating material, the adhesiveness as a masking material is retained while the peelability of the masking material after work can be improved.
(FR)L'invention concerne un matériau de revêtement de masquage résistant à la chaleur qui forme un film de revêtement qui conserve une résistance à la chaleur et une adhésivité pendant le travail, et qui peut être décollé après le travail. Ce matériau de revêtement de masquage résistant à la chaleur est un matériau de revêtement dans lequel un oligomère-2 silicone alcoxy, qui est un oligomère intermédiaire (par exemple 10-mère à 20-mère) ayant une faible proportion de groupes de substitution réticulés, est ajouté à un oligomère-1 silicone alcoxy, qui est un oligomère inférieur (par exemple un tétramère) ayant une proportion élevée de groupes de substitution réticulés. Un tel matériau de revêtement de masquage résistant à la chaleur est utilisé par exemple dans une étape de pulvérisation thermique. Plus précisément, un matériau de masquage est formé dans une région sans pulvérisation thermique, par utilisation du matériau de revêtement de masquage résistant à la chaleur, un film pulvérisé est formé dans une région de pulvérisation thermique, puis le matériau de masquage est enlevé. Au moyen de ce matériau de revêtement de masquage résistant à la chaleur, l'adhésivité en tant que matériau de masquage se conserve, tout en améliorant l'aptitude au décollage du matériau de masquage après le travail.
(JA)作業時には、耐熱性、接着性を維持しつつ、作業後には、剥離性を有する塗布膜となるマスキング耐熱塗料を提供する。本発明のマスキング耐熱塗料は、低量体(例えば、4量体)で、架橋置換基の割合の多いシリコーンアルコキシオリゴマー1に、中量体(例えば、10~20量体)で、架橋置換基の割合の少ないシリコーンアルコキシオリゴマー2を添加した塗料である。このようなマスキング耐熱塗料を、例えば、溶射工程に用いる。具体的には、マスキング耐熱塗料を用いて、非溶射領域にマスキング材を形成し、溶射領域に溶射被膜を形成した後、マスキング材を剥離する。本発明のマスキング耐熱塗料によれば、マスキング材としての接着性を維持しつつ、作業後のマスキング材の剥離性を向上させることができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)