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1. (WO2018047548) DISPOSITIF D'IRRADIATION PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET SON PROCÉDÉ D'UTILISATION
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N° de publication :    WO/2018/047548    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/028428
Date de publication : 15.03.2018 Date de dépôt international : 04.08.2017
CIB :
G21K 5/00 (2006.01), B65B 55/08 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01)
Déposants : HITACHI ZOSEN CORPORATION [JP/JP]; 7-89, Nanko-kita 1-chome, Suminoe-ku, Osaka-shi, Osaka 5598559 (JP)
Inventeurs : NODA Takeshi; (--).
KUSUNOKI Katsunori; (--)
Mandataire : MORIMOTO INT'L PATENT OFFICE; SHINANOBASHI MITSUI BLDG. 3rd Floor, 11-7, Utsubohonmachi 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-173243 06.09.2016 JP
Titre (EN) ELECTRON BEAM IRRADIATION DEVICE AND METHOD FOR USING SAME
(FR) DISPOSITIF D'IRRADIATION PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET SON PROCÉDÉ D'UTILISATION
(JA) 電子線照射装置およびその使用方法
Abrégé : front page image
(EN)An electron beam irradiation device (1) provided with a vacuum chamber (2) having an electron beam generator (20) disposed therein, a vacuum nozzle (3) that is in communication with and is connected to the vacuum chamber (2), and an emission window (5), provided in the vacuum nozzle (3), that transmits an electron beam (E) from the electron beam generator (20) and emits the same to the outside. A refrigerant path for guiding refrigerant is formed in the vacuum nozzle (3). The electron beam irradiation device (1) is provided with a refrigerant temperature adjuster (7) for adjusting the temperature of the refrigerant guided through the refrigerant path such that the relative humidity around the nitrate (N) deposited on the surface of the vacuum nozzle (3) suppresses the deliquescence of the nitrate (N).
(FR)L'invention concerne un dispositif d'irradiation par faisceau d'électrons (1) comprenant une chambre à vide (2) à l'intérieur de laquelle un générateur de faisceau d'électrons (20) est disposé, une buse à vide (3) qui est en communication avec la chambre à vide (2) et est reliée à celle-ci, et une fenêtre d'émission (5), disposée dans la buse à vide (3), qui transmet un faisceau d'électrons (E) à partir du générateur de faisceau d'électrons (20) et l'émet vers l'extérieur. Un trajet de fluide frigorigène pour guider un fluide frigorigène est formé dans la buse à vide (3). Le dispositif d'irradiation par faisceau d'électrons (1) comprend un dispositif de réglage de température de fluide frigorigène (7) pour régler la température du fluide frigorigène guidé à travers le trajet de fluide frigorigène de telle sorte que l'humidité relative autour du nitrate (N) déposé sur la surface de la buse à vide (3) supprime la déliquescence du nitrate (N).
(JA)内部に電子線発生器(20)が配置された真空チャンバ(2)と、真空チャンバ(2)に連通して接続された真空ノズル(3)と、真空ノズル(3)に設けられて電子線発生器(20)からの電子線(E)を通過させて外部に出射する出射窓(5)とを備える電子線照射装置(1)である。冷媒を導く冷媒路が真空ノズル(3)に形成される。電子線照射装置(1)は、冷媒路に導かれる冷媒の温度を、真空ノズル(3)の表面に堆積した硝酸塩(N)の周囲において当該硝酸塩(N)の潮解が抑制される相対湿度となるように調整する冷媒温度調整器(7)を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)