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1. (WO2018047443) CRISTAUX D'ACIDE DICARBOXYLIQUE ET LEUR PROCÉDÉ DE PRODUCTION
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N° de publication :    WO/2018/047443    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/023515
Date de publication : 15.03.2018 Date de dépôt international : 27.06.2017
CIB :
C07C 51/43 (2006.01), A61K 8/362 (2006.01), A61Q 19/10 (2006.01), C07C 55/10 (2006.01), C07C 57/15 (2006.01)
Déposants : KAO CORPORATION [JP/JP]; 14-10, Nihonbashi Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210 (JP)
Inventeurs : NOBA, Masahiro; (JP).
IRIE, Yutaka; (JP).
OBUNAI, Ryo; (JP)
Mandataire : THE PATENT CORPORATE BODY ARUGA PATENT OFFICE; Sawanotsuru Ningyocho Bldg., 1-3-8, Nihonbashi Ningyocho, Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-176416 09.09.2016 JP
2017-118805 16.06.2017 JP
Titre (EN) CRYSTALS OF DICARBOXYLIC ACID AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR
(FR) CRISTAUX D'ACIDE DICARBOXYLIQUE ET LEUR PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ジカルボン酸結晶及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Crystals of a C4 dicarboxylic acid having a high oil absorption and a process for producing the crystals are provided. The crystals of a C4 dicarboxylic acid have an oil absorption, as determined in accordance with JIS K 5101-13-2 (2004), of 40-200 mL/100 g.
(FR)L'invention concerne également des cristaux d'acide dicarboxylique en C4 ayant une forte absorption d'huile et un procédé de production des cristaux. Les cristaux d'un acide dicarboxylique en C4 ont une absorption d'huile, telle que déterminée conformément à JIS K 5101-13-2 (2004), de 40 à 200 mL/100 g.
(JA)吸油量が高いC4ジカルボン酸結晶及びその製造方法の提供。 JIS K 5101-13-2(2004)に準拠して測定される吸油量が40mL/100g~200mL/100gである炭素数4のジカルボン酸結晶。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)