WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018046280) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET STRUCTURES DE SUPPORT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/046280    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/070896
Date de publication : 15.03.2018 Date de dépôt international : 18.08.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Déposants : ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : JUDGE, Andrew; (US)
Mandataire : SLENDERS, Peter; (NL)
Données relatives à la priorité :
62/385,623 09.09.2016 US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND SUPPORT STRUCTURES BACKGROUND
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET STRUCTURES DE SUPPORT
Abrégé : front page image
(EN)A lithographic apparatus can include a stationary frame having a first electrical conductor, and a support structure configured to support an object. The support structure is movably coupled to the frame and has a second electrical conductor. The lithographic apparatus can also include a conductive fluid that electrically couples the first electrical conductor to the second electrical conductor.
(FR)Un appareil lithographique peut comprendre un cadre fixe ayant un premier conducteur électrique, et une structure de support conçue pour porter un objet. La structure de support est couplée de façon mobile au cadre et comporte un second conducteur électrique. L'appareil lithographique peut également comprendre un fluide conducteur qui couple électriquement le premier conducteur électrique au second conducteur électrique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)