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1. (WO2018045441) INSTRUMENT DE DÉPLACEMENT ET DE POSITIONNEMENT D’ÉLÉMENTS OPTIQUES À RÉSOLUTION ET STABILITÉ MÉCANIQUE NANOMÉTRIQUES DANS DES LIGNES DE LUMIÈRE
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N° de publication :    WO/2018/045441    N° de la demande internationale :    PCT/BR2017/050262
Date de publication : 15.03.2018 Date de dépôt international : 06.09.2017
CIB :
G02B 7/182 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01)
Déposants : CENTRO NACIONAL DE PESQUISA EM ENERGIA E MATERIAIS [BR/BR]; RUA GIUSEPPE MÁXIMO SCOLFARO, 10.000 GUARÁ, BARÃO GERALDO SÃO PAULO - SP 13083-100 CAMPINAS (BR)
Inventeurs : RAMALHO GERALDES, Renan; (BR).
MALAGODI CALIARI, Ricardo; (BR).
SAVERI SILVA, Marlon; (BR)
Mandataire : VAZ E DIAS ADVOGADOS E ASSOCIADOS; Rua da Assembleia 10, Salas 1503/1504 Centro 20011-000 Rio de Janeiro (BR)
Données relatives à la priorité :
BR 102016020900-5 09.09.2016 BR
BR 102017019178-8 06.09.2017 BR
Titre (EN) INSTRUMENT FOR MOVING AND POSITIONING OPTICAL ELEMENTS WITH NANOMETRIC MECHANICAL STABILITY AND RESOLUTION IN LIGHT LINES
(FR) INSTRUMENT DE DÉPLACEMENT ET DE POSITIONNEMENT D’ÉLÉMENTS OPTIQUES À RÉSOLUTION ET STABILITÉ MÉCANIQUE NANOMÉTRIQUES DANS DES LIGNES DE LUMIÈRE
(PT) INSTRUMENTO PARA MOVIMENTAÇÃO E POSICIONAMENTO DE ELEMENTOS ÓPTICOS COM RESOLUÇÃO E ESTABILIDADE MECÂNICA NANOMÉTRICAS EM LINHAS DE LUZ
Abrégé : front page image
(EN)An instrument for moving and positioning an optical element (3) in light lines that includes a mounting structure (2) in which one or more optical elements (3) are mounted, and also a reference structure (1) on which the mounting structure (2) is directly or indirectly mounted. The mounting structure (2) is moved using movement means (4) with low mechanical rigidity and the position thereof in relation to the reference structure (1) is measured in high resolution using position measurement means (6). The instrument also includes reaction mass (5) to receive the reaction to the force exerted by the movement means (4) of the mounting structure (2). The structural elements are interlinked by elastic means (/1 and /2) with specific rigidity properties so that the aforementioned position control is effected in closed loop with a bandwidth exceeding 100 Hz. The instrument can be used to position a double crystal monochromator for synchrotron light radiation.
(FR)L'invention concerne un instrument de déplacement et de positionnement d’un élément optique (3) dans des lignes de lumière, comprenant une structure de montage (2) sur laquelle un ou plusieurs éléments optiques (3) sont montés, ainsi qu'une structure de référence (1) sur laquelle la structure de montage (2) est directement ou indirectement montée. La structure de montage (2) est déplacée par un moyen de déplacement (4) à faible rigidité mécanique et sa position par rapport à la structure de référence (1) est mesurée avec une haute résolution par un moyen de mesure de position (6). L'instrument comprend en outre une masse de réaction (5) pour recevoir la réaction à la force exercée par le moyen de déplacement (4) de la structure de montage (2). La liaison entre les éléments structuraux est assurée par des moyens élastiques (l1 et l2) présentant des propriétés spécifiques de rigidité afin que le contrôle de position cité soit réalisé en maillage fermé avec largeur de bande supérieure à 100 Hz. Cet instrument peut être destiné au positionnement d'un monochromateur à double cristal pour rayonnement de lumière synchrotron.
(PT)Um instrumento para movimentação e posicionamento de um elemento óptico (3) em linhas de luz o qual compreende uma estrutura de montagem (2), na qual um ou mais elementos ópticos (3) são montados, bem como uma estrutura de referência (1), à qual a estrutura de montagem (2) é direta ou indiretamente montada. A estrutura de montagem (2) é movida via meio de movimentação (4) de baixa rigidez mecânica e a posição da mesma em relação à estrutura de referência (1) é medida com alta resolução via meio de medição de posição (6). O instrumento compreende ainda massa de reação (5) para receber a reação à força exercida peio meio de movimentação (4) da estrutura de montagem (2). A interligação dos elementos estruturais é feita por meios elásticos (/1 e /2)com propriedades específicas de rigidez para que o controle de posição citado seja feito em malha fechada com largura de banda maior que 100 Hz. O instrumento é aplicável ao posicionamento de um monocromador de duplo cristal para radiação de luz síncrotron.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : portugais (PT)
Langue de dépôt : portugais (PT)