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1. (WO2018045132) COMPOSITIONS DE CATALYSEURS PHOTOACTIFS
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N° de publication :    WO/2018/045132    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/049540
Date de publication : 08.03.2018 Date de dépôt international : 31.08.2017
CIB :
B01J 31/16 (2006.01), B01J 35/00 (2006.01), B01J 31/02 (2006.01), B01J 31/06 (2006.01), C08K 13/00 (2006.01)
Déposants : CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 1200 East California Boulevard, M/C 6-32 Pasadena, CA 91125 (US).
POLYSPECTRA, INC. [US/US]; 2342 Shattuck Avenue, #213 Berkeley, CA 94704-1517 (US)
Inventeurs : WEITEKAMP, Raymond, A.; (US)
Mandataire : MURPHY, John, F.; (US).
DEKLEVA, Thomas, W.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/383,146 02.09.2016 US
Titre (EN) PHOTOACTIVE CATALYST COMPOSITIONS
(FR) COMPOSITIONS DE CATALYSEURS PHOTOACTIFS
Abrégé : front page image
(EN)The present disclosure is directed to photosensitive compositions 'Fischer-type' ruthenium carbene catalysts containing chelated 2,2' -bipyri dine ligands and methods of using the same. These catalysts are surprisingly active even when using relatively low intensity diode light sources. The 2,2'-bipyridine-chelated ruthenium photocatalysts show reactivity at substantially lower exposure levels than other photoactive chelating dinitrogen ligands of similar structure. The present disclosure is further directed to novel photosensitive compositions, their use as photoresists, and methods related to patterning polymer layers on substrates.
(FR)La présente invention concerne des catalyseurs de carbène de ruthénium de type "Fischer" de composition photosensible contenant des ligands 2,2 '-biphénydine chélatés et des procédés d'utilisation de ceux-ci. Ces catalyseurs sont étonnamment actifs même lors de l'utilisation de sources de lumière à diodes à intensité relativement faible. Les photocatalyseurs de ruthénium chélatés 2,2 '-bipyridine présentent une réactivité à des niveaux d'exposition sensiblement inférieurs à d'autres ligands de diazote chélatant photoactifs de structure similaire. La présente invention concerne en outre de nouvelles compositions photosensibles, leur utilisation en tant que photorésines, et des procédés associés à la formation de motifs de couches polymères sur des substrats.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)